Печь RTP
Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C
Артикул: TU-RT31
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система термической обработки представляет собой вершину компактных технологий быстрого термического отжига (RTP), разработанную специально для жестких требований отжига полупроводниковых пластин и исследований солнечных элементов. Благодаря использованию галогенных нагревательных элементов высокой интенсивности оборудование достигает исключительных скоростей нагрева, что делает его незаменимым инструментом для лабораторий, требующих точного контроля теплового бюджета. Конструкция ориентирована на обеспечение высокой производительности без ущерба для кристаллической целостности чувствительных подложек.
Система разработана для универсальности и поддерживает работу в вакууме и различных атмосферных условиях, что позволяет использовать ее в широком спектре материаловедческих задач. Интеграция кварцевой трубки с внутренним диаметром 4 дюйма обеспечивает совместимость с образцами диаметром до 3 дюймов, предоставляя обширную зону обработки для экспериментального и мелкосерийного производства. Данная установка служит фундаментальной платформой для исследователей в области нанотехнологий, фотовольтаики и передового производства полупроводников, которым требуются повторяемые и надежные циклы термообработки.
Надежность лежит в основе этой инженерной конструкции. Печь имеет прочный двухслойный стальной корпус с активным воздушным охлаждением для поддержания безопасной температуры внешних поверхностей даже во время высокотемпературных процессов. Каждый компонент, от высокочистой волокнистой глиноземной изоляции до прецизионных вакуумных фланцев, был выбран за способность выдерживать быстрые термические циклы. Это гарантирует, что система сохраняет эксплуатационную стабильность и точность на протяжении тысяч циклов, обеспечивая пользователям полную уверенность в своих экспериментальных данных и стабильности процессов.
Основные характеристики
- Сверхбыстрая галогенная технология нагрева: Оснащенная восемью галогенными лампами мощностью 1 кВт каждая, эта система достигает лидирующей в отрасли скорости нагрева до 50°C в секунду. Такой быстрый отклик позволяет точно контролировать тепловую диффузию и минимизировать нежелательные химические реакции на границе раздела подложки.
- Держатель образцов из нитрида алюминия с высокой проводимостью: Включение 3-дюймового держателя из нитрида алюминия (AlN) обеспечивает превосходную температурную однородность по всей поверхности образца. Исключительная теплопроводность AlN способствует равномерному распределению тепла, что критически важно для предотвращения термических напряжений и обеспечения равномерного роста зерен в тонких пленках.
- Прецизионный ПИД-контроль температуры: Встроенный 30-сегментный цифровой контроллер обеспечивает точность ±1°C, позволяя исследователям программировать сложные профили нагрева, выдержки и охлаждения. Функция автонастройки системы и аварийные сигналы перегрева гарантируют повторяемость процессов и безопасность оборудования.
- Усовершенствованный контроль атмосферы и вакуума: Благодаря высоковакуумным фланцам KF-D25 с двойными высокотемпературными силиконовыми уплотнительными кольцами, печь может поддерживать уровень вакуума до 10^-4 Торр при использовании соответствующих насосных систем. Встроенные игольчатые клапаны и расходомер позволяют точно подавать инертные или реактивные газы.
- Интегрированная система блокировки безопасности: Для защиты оператора печь оснащена механизмом блокировки откидной крышки. Если крышка открывается во время процесса нагрева, питание нагревательных элементов немедленно отключается, предотвращая случайное воздействие высокого напряжения или теплового излучения.
- Активное охлаждение и управление температурой: Двухслойная конструкция корпуса с принудительным воздушным охлаждением удерживает температуру внешней поверхности печи ниже 60°C. Кроме того, вакуумные фланцы оснащены рубашками водяного охлаждения для защиты уплотнений во время длительных высокотемпературных операций выше 600°C.
- Удаленный мониторинг и регистрация данных: Система включает коммуникационный порт RS485 и специализированное программное обеспечение для управления, позволяющее в режиме реального времени отслеживать температурные профили через ПК. Этот цифровой интерфейс необходим для документирования экспериментальных параметров и обеспечения прослеживаемости в средах НИОКР.
- Модульность и расширяемость: Конструкция устройства позволяет модифицировать его для специализированных процессов, таких как быстрое термическое испарение (RTE), сублимация в узком зазоре (CSS) или гибридное физико-химическое осаждение из газовой фазы (HPCVD) с использованием дополнительных графитовых тиглей и специализированных аксессуаров.
Применение
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Отжиг полупроводников | Быстрая термическая обработка кремниевых и сложных полупроводниковых пластин диаметром до 3 дюймов. | Минимизирует диффузию легирующих примесей и оптимизирует электрические свойства за счет точного контроля теплового бюджета. |
| Синтез графена | Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) однослойного и многослойного графена на металлических катализаторах. | Высокие скорости нагрева позволяют создавать высококачественные атомные структуры с минимальным количеством примесей. |
| Исследования солнечных элементов | Отжиг после осаждения тонкопленочных фотоэлектрических элементов, таких как Sb2Se3 или перовскитные элементы. | Увеличивает размер и ориентацию зерен, что приводит к значительному улучшению эффективности преобразования энергии. |
| Быстрое термическое окисление | Контролируемый рост тонких оксидных слоев на кремниевых подложках в обогащенной кислородом атмосфере. | Точный контроль толщины оксида и качества границы раздела за счет быстрых циклов. |
| Изучение фаз материалов | Исследование фазовых переходов в металлических и керамических тонких пленках при быстром нагреве. | Позволяет фиксировать метастабильные фазы, недостижимые в обычных печах с медленным нагревом. |
| Создание контактов (легирование) | Формирование омических и контактов Шоттки при производстве микроэлектронных устройств. | Стабильное и повторяемое формирование сплавов без перегрева подложки. |
Технические характеристики
| Параметр | Характеристики для TU-RT31 |
|---|---|
| Конструкция печи | Двухслойный стальной корпус с воздушным охлаждением; Высокочистая волокнистая глиноземная изоляция; Откидная крышка с защитной блокировкой |
| Электропитание | 208-240В переменного тока, 50/60 Гц, однофазное; Макс. 9 кВт (требуется автомат 60А) |
| Нагревательные элементы | 8 галогенных ламп по 1 кВт (Диаметр: 10 мм, Длина: 300 мм); Длина зоны нагрева: 200 мм |
| Максимальная температура | 1100ºC менее 10 минут; 1000ºC менее 20 минут; 800ºC менее 120 минут; 600ºC постоянно |
| Скорость нагрева | Максимальная: 50ºC/сек; Рекомендуемая: 5ºC/сек |
| Скорость охлаждения | В вакууме: 60ºC/мин; В атмосфере: 117ºC/мин; Минимальная: 10ºC/мин |
| Зона нагрева | Длина 12 дюймов; зона постоянной температуры 4 дюйма с однородностью +/-5ºC |
| Контроль температуры | 30-сегментный ПИД-контроль; Автонастройка; Точность +/- 1ºC; Сигнализация перегрева и неисправностей |
| Термопара | Тип K, расположена так, чтобы касаться держателя образца снизу |
| Размеры кварцевой трубки | Внешний диаметр 4.33" x Внутренний диаметр 4.05" x Длина 16.2" |
| Держатель образца | Пластина из нитрида алюминия (AlN) диаметром 3 дюйма; Съемная с фланца |
| Вакуумная система | Фланцы из нержавеющей стали KF-D25; Высокотемпературные силиконовые уплотнительные кольца; Рубашка водяного охлаждения в комплекте |
| Уровень вакуума | 10^-3 Торр (механический насос); 10^-4 Торр (молекулярный насос) |
| Работа с газом | Один расходомер (16 - 160 мл/мин), установленный на передней панели |
| Вакуумметр | Цифровой манометр в комплекте (Диапазон: 10^-4 - 1000 Торр) |
| Требования к водяному охлаждению | Расход ≥ 10 л/мин; Температура < 25ºC; Давление > 25 PSI |
| Соответствие стандартам | Сертификация UL/CSA (UL 61010) доступна по запросу |
Почему стоит выбрать эту систему
- Разработана для скорости: Архитектура нагрева на основе галогенных ламп обеспечивает время термического отклика, недостижимое для обычных резистивных печей, сокращая время обработки и расширяя возможности передовых исследований материалов.
- Исключительная однородность: Благодаря использованию держателя образцов из нитрида алюминия, это устройство преодолевает проблемы температурных градиентов, характерные для высокоскоростных печей, обеспечивая стабильные свойства тонких пленок по всей подложке.
- Качество сборки промышленного уровня: Оборудование изготовлено из высококачественных материалов, оснащено защитными блокировками и фланцами с водяным охлаждением, что обеспечивает долгосрочную эксплуатационную стабильность в требовательных лабораторных и промышленных средах НИОКР.
- Универсальная и масштабируемая платформа: Независимо от того, выполняете ли вы стандартный отжиг или сложный процесс CVD, модульная конструкция позволяет легко интегрировать вакуумные насосы, системы подачи газа и специализированные подложки для образцов.
- Точность и прослеживаемость: Благодаря встроенной связи с ПК и 30-сегментному программированию каждый термический цикл точно контролируется и документируется, что соответствует строгим стандартам современного материаловедения.
Свяжитесь с нашей командой технических специалистов сегодня, чтобы получить подробное коммерческое предложение или обсудить индивидуальное термическое решение, адаптированное к вашим конкретным исследовательским требованиям.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Печь быстрой термообработки с нижней загрузкой и регулируемой атмосферой, 1100°C, скорость нагрева 50°C/с, для отжига пластин
Достигните пиковой эффективности с этой печью быстрой термообработки с нижней загрузкой на 1100°C, скоростью нагрева 50°C/с и автоматическим регулированием атмосферы. Идеально подходит для высокопроизводительного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига полупроводниковых пластин диаметром до шести дюймов в условиях передовых научных исследований.
Печь для быстрой термической обработки RTP с контролируемой атмосферой и нижней загрузкой, 1100°C, высокая производительность, скорость нагрева 50°C в секунду
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой печью RTP с нижней загрузкой на 1100°C, оснащенной сверхбыстрым нагревом 50°C/с и контролем атмосферы. Эта высокопроизводительная система интегрируется с роботизированными манипуляторами для автоматизированного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига пластин диаметром до 6 дюймов.
Печь для быстрой термической обработки (RTP) 1100°C с нижней загрузкой и контролем атмосферы для отжига пластин и исследований катализа
Эта печь RTP с нижней загрузкой и рабочей температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев со скоростью 50°C/с для отжига пластин и каталитических процессов. Благодаря автоматизированному контролю атмосферы и интеграции с робототехникой, система гарантирует высокую точность и производительность для требовательных промышленных НИОКР и материаловедения, обеспечивая стабильную надежность и непревзойденные характеристики.
Вертикальная трубчатая печь для закалки с контролируемой атмосферой до 1200°C и кварцевой трубкой 4 дюйма
Эта вертикальная закалочная печь на 1200°C оснащена автоматическим электромагнитным механизмом сброса образцов и 4-дюймовой вакуумно-герметичной кварцевой трубкой, обеспечивая точный контроль атмосферы и быстрое охлаждение для передовых исследований фазовых переходов материалов и промышленной металлургии.
Вакуумная тигельная печь 1100°C с кварцевой камерой для термообработки и спекания
Эта вакуумная тигельная печь 1100°C оснащена кварцевой камерой для точной термообработки. Предназначена для спекания и термической обработки в вакууме или инертной атмосфере, она обеспечивает стабильные результаты для исследований в области материаловедения, промышленной инженерии и профессиональных научно-исследовательских лабораторий.
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Оптимизируйте синтез материалов с помощью этой скоростной трубчатой печи RTP с максимальной температурой 900°C. Разработанная для быстрого ИК-нагрева со скоростью 50°C/с и автоматизированного охлаждения, она обеспечивает точный контроль для исследований графена, углеродных нанотрубок и перовскитных солнечных элементов.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Кварцевая трубчатая печь диаметром 1100°C с зоной нагрева 24 дюйма и фланцами с водяным охлаждением
Эта кварцевая трубчатая печь диаметром 1100°C оснащена зоной нагрева 24 дюйма и фланцами с водяным охлаждением для точной обработки методом CVD. Идеально подходит для материаловедческих исследований и промышленных НИОКР, обеспечивая исключительную термическую стабильность и надежные тепловые характеристики.
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Высокопроизводительная двухзонная ИК-печь RTP с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и двумя подвижными держателями образцов. Обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с для передовых исследований в области синтеза 2D-материалов, сверхпроводимости и прецизионного высокоскоростного осаждения из паровой фазы.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь с вакуумными фланцами из нержавеющей стали для быстрой термической закалки и обработки материалов в контролируемой атмосфере
Эта компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь, разработанная для высокоточных исследований, обеспечивает быстрый нагрев до 1100°C. Оснащенная вакуумными фланцами из нержавеющей стали и 30-сегментным программируемым управлением, она является незаменимым инструментом для материаловедения и промышленных процессов закалки. Надежная производительность.
Высокотемпературная трубчатая печь качающегося типа 1100°C с 2-дюймовой рабочей трубой из суперсплава для синтеза материалов
Усовершенствованная высокотемпературная трубчатая печь качающегося типа (1100°C), оснащенная 2-дюймовой рабочей трубой из суперсплава для синтеза материалов под давлением. Система разработана для промышленных НИОКР и обеспечивает точный температурный контроль, автоматизированное качание и высокий уровень безопасности при проведении сложных процессов обработки материалов.
Высокотемпературная кварцевая камерная печь 1100°C, внешний диаметр 8 дюймов, объем 7,6 литра, с возможностью работы в вакууме
Расширьте возможности вашей лаборатории с помощью этой кварцевой камерной печи на 1100°C с внешним диаметром 8 дюймов и объемом 7,6 литра. Эта система, разработанная для работы в вакууме и контролируемой атмосфере, обеспечивает прецизионную термическую обработку для передовых исследований материалов и производства полупроводников.
Вертикальная трубчатая печь с разъемным корпусом 1100°C, кварцевой трубкой 80 мм и вакуумными фланцами из нержавеющей стали
Эта высокопроизводительная вертикальная трубчатая печь с разъемным корпусом (1100°C) оснащена кварцевой трубкой диаметром 80 мм, вакуумными фланцами из нержавеющей стали и точным 30-сегментным ПИД-контроллером. Разработана для НИОКР в области материалов, быстрой закалки и термической обработки в контролируемой атмосфере в профессиональных промышленных лабораториях.
Сдвижная трубчатая печь с максимальной температурой 1200°C, кварцевой трубкой 80 мм (внешний диаметр) и вакуумными фланцами для быстрой термической обработки, ускоренного нагрева и охлаждения
Выполняйте быструю термическую обработку с помощью этой сдвижной трубчатой печи с максимальной температурой 1200°C. Благодаря кварцевой трубке с внешним диаметром 80 мм и ручному механизму сдвига, печь обеспечивает исключительную скорость нагрева и охлаждения до 100°C в минуту, что идеально подходит для передовых исследований материалов и промышленных НИОКР.
Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки
Эта профессиональная трубчатая печь 1200C оснащена ручным магнитным механизмом скольжения образца, специально разработанным для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки. Она обеспечивает точный контроль температуры и стабильный рост материалов для требовательных научно-исследовательских и промышленных применений в области материаловедения.
Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения
Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.
Автоматическая печь с нижней загрузкой, контролируемой атмосферой, 1200°C и кварцевой трубкой 6 дюймов
Усовершенствованная автоматическая печь с нижней загрузкой, контролируемой атмосферой, рассчитанная на 1200°C, оснащенная шестидюймовой кварцевой трубкой и двухзонным нагревом. Предназначена для высокопроизводительных исследований материалов и промышленных процессов термической обработки, требующих стабильной точности и полной интеграции автоматизации в научно-исследовательских лабораториях.
Разрывная вертикальная трубчатая печь с кварцевой трубкой 1200°C и вакуумными фланцами из нержавеющей стали для быстрой термической обработки
Максимизируйте эффективность исследований с этой разрывной вертикальной трубчатой печью 1200°C, оснащенной 5-дюймовой кварцевой трубкой и точным ПИД-регулированием для быстрого закаливания, вакуумной обработки и современного синтеза материалов в требовательных лабораторных условиях промышленности.
Высокотемпературная 1200°C 5-дюймовая сдвижная трубчатая печь для быстрого термического отжига (RTP) и отжига пластин
Ускорьте свои исследования материалов с помощью этой сдвижной трубчатой печи на 1200°C, предназначенной для быстрого термического отжига. Оснащенная 5-дюймовой кварцевой трубкой и двойными ПИД-контроллерами, она обеспечивает точные скорости нагрева и охлаждения для передовых полупроводниковых приложений.
Связанные статьи
Невидимый барьер: почему точный термоконтроль требует химической тишины
Физика искупления: восстановление поверхности фиолетового фосфора в тепловом поле
Скрытая цена эффективности: устранение повреждений, вызванных плазмой, с помощью термической точности
Архитектура тишины: почему контроль атмосферы определяет гетеропереход TiO2/In2S3
