Печь RTP
Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C
Артикул: TU-RT31
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система термической обработки представляет собой вершину компактных технологий быстрого термического отжига (RTP), разработанную специально для жестких требований отжига полупроводниковых пластин и исследований солнечных элементов. Благодаря использованию галогенных нагревательных элементов высокой интенсивности оборудование достигает исключительных скоростей нагрева, что делает его незаменимым инструментом для лабораторий, требующих точного контроля теплового бюджета. Конструкция ориентирована на обеспечение высокой производительности без ущерба для кристаллической целостности чувствительных подложек.
Система разработана для универсальности и поддерживает работу в вакууме и различных атмосферных условиях, что позволяет использовать ее в широком спектре материаловедческих задач. Интеграция кварцевой трубки с внутренним диаметром 4 дюйма обеспечивает совместимость с образцами диаметром до 3 дюймов, предоставляя обширную зону обработки для экспериментального и мелкосерийного производства. Данная установка служит фундаментальной платформой для исследователей в области нанотехнологий, фотовольтаики и передового производства полупроводников, которым требуются повторяемые и надежные циклы термообработки.
Надежность лежит в основе этой инженерной конструкции. Печь имеет прочный двухслойный стальной корпус с активным воздушным охлаждением для поддержания безопасной температуры внешних поверхностей даже во время высокотемпературных процессов. Каждый компонент, от высокочистой волокнистой глиноземной изоляции до прецизионных вакуумных фланцев, был выбран за способность выдерживать быстрые термические циклы. Это гарантирует, что система сохраняет эксплуатационную стабильность и точность на протяжении тысяч циклов, обеспечивая пользователям полную уверенность в своих экспериментальных данных и стабильности процессов.
Основные характеристики
- Сверхбыстрая галогенная технология нагрева: Оснащенная восемью галогенными лампами мощностью 1 кВт каждая, эта система достигает лидирующей в отрасли скорости нагрева до 50°C в секунду. Такой быстрый отклик позволяет точно контролировать тепловую диффузию и минимизировать нежелательные химические реакции на границе раздела подложки.
- Держатель образцов из нитрида алюминия с высокой проводимостью: Включение 3-дюймового держателя из нитрида алюминия (AlN) обеспечивает превосходную температурную однородность по всей поверхности образца. Исключительная теплопроводность AlN способствует равномерному распределению тепла, что критически важно для предотвращения термических напряжений и обеспечения равномерного роста зерен в тонких пленках.
- Прецизионный ПИД-контроль температуры: Встроенный 30-сегментный цифровой контроллер обеспечивает точность ±1°C, позволяя исследователям программировать сложные профили нагрева, выдержки и охлаждения. Функция автонастройки системы и аварийные сигналы перегрева гарантируют повторяемость процессов и безопасность оборудования.
- Усовершенствованный контроль атмосферы и вакуума: Благодаря высоковакуумным фланцам KF-D25 с двойными высокотемпературными силиконовыми уплотнительными кольцами, печь может поддерживать уровень вакуума до 10^-4 Торр при использовании соответствующих насосных систем. Встроенные игольчатые клапаны и расходомер позволяют точно подавать инертные или реактивные газы.
- Интегрированная система блокировки безопасности: Для защиты оператора печь оснащена механизмом блокировки откидной крышки. Если крышка открывается во время процесса нагрева, питание нагревательных элементов немедленно отключается, предотвращая случайное воздействие высокого напряжения или теплового излучения.
- Активное охлаждение и управление температурой: Двухслойная конструкция корпуса с принудительным воздушным охлаждением удерживает температуру внешней поверхности печи ниже 60°C. Кроме того, вакуумные фланцы оснащены рубашками водяного охлаждения для защиты уплотнений во время длительных высокотемпературных операций выше 600°C.
- Удаленный мониторинг и регистрация данных: Система включает коммуникационный порт RS485 и специализированное программное обеспечение для управления, позволяющее в режиме реального времени отслеживать температурные профили через ПК. Этот цифровой интерфейс необходим для документирования экспериментальных параметров и обеспечения прослеживаемости в средах НИОКР.
- Модульность и расширяемость: Конструкция устройства позволяет модифицировать его для специализированных процессов, таких как быстрое термическое испарение (RTE), сублимация в узком зазоре (CSS) или гибридное физико-химическое осаждение из газовой фазы (HPCVD) с использованием дополнительных графитовых тиглей и специализированных аксессуаров.
Применение
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Отжиг полупроводников | Быстрая термическая обработка кремниевых и сложных полупроводниковых пластин диаметром до 3 дюймов. | Минимизирует диффузию легирующих примесей и оптимизирует электрические свойства за счет точного контроля теплового бюджета. |
| Синтез графена | Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) однослойного и многослойного графена на металлических катализаторах. | Высокие скорости нагрева позволяют создавать высококачественные атомные структуры с минимальным количеством примесей. |
| Исследования солнечных элементов | Отжиг после осаждения тонкопленочных фотоэлектрических элементов, таких как Sb2Se3 или перовскитные элементы. | Увеличивает размер и ориентацию зерен, что приводит к значительному улучшению эффективности преобразования энергии. |
| Быстрое термическое окисление | Контролируемый рост тонких оксидных слоев на кремниевых подложках в обогащенной кислородом атмосфере. | Точный контроль толщины оксида и качества границы раздела за счет быстрых циклов. |
| Изучение фаз материалов | Исследование фазовых переходов в металлических и керамических тонких пленках при быстром нагреве. | Позволяет фиксировать метастабильные фазы, недостижимые в обычных печах с медленным нагревом. |
| Создание контактов (легирование) | Формирование омических и контактов Шоттки при производстве микроэлектронных устройств. | Стабильное и повторяемое формирование сплавов без перегрева подложки. |
Технические характеристики
| Параметр | Характеристики для TU-RT31 |
|---|---|
| Конструкция печи | Двухслойный стальной корпус с воздушным охлаждением; Высокочистая волокнистая глиноземная изоляция; Откидная крышка с защитной блокировкой |
| Электропитание | 208-240В переменного тока, 50/60 Гц, однофазное; Макс. 9 кВт (требуется автомат 60А) |
| Нагревательные элементы | 8 галогенных ламп по 1 кВт (Диаметр: 10 мм, Длина: 300 мм); Длина зоны нагрева: 200 мм |
| Максимальная температура | 1100ºC менее 10 минут; 1000ºC менее 20 минут; 800ºC менее 120 минут; 600ºC постоянно |
| Скорость нагрева | Максимальная: 50ºC/сек; Рекомендуемая: 5ºC/сек |
| Скорость охлаждения | В вакууме: 60ºC/мин; В атмосфере: 117ºC/мин; Минимальная: 10ºC/мин |
| Зона нагрева | Длина 12 дюймов; зона постоянной температуры 4 дюйма с однородностью +/-5ºC |
| Контроль температуры | 30-сегментный ПИД-контроль; Автонастройка; Точность +/- 1ºC; Сигнализация перегрева и неисправностей |
| Термопара | Тип K, расположена так, чтобы касаться держателя образца снизу |
| Размеры кварцевой трубки | Внешний диаметр 4.33" x Внутренний диаметр 4.05" x Длина 16.2" |
| Держатель образца | Пластина из нитрида алюминия (AlN) диаметром 3 дюйма; Съемная с фланца |
| Вакуумная система | Фланцы из нержавеющей стали KF-D25; Высокотемпературные силиконовые уплотнительные кольца; Рубашка водяного охлаждения в комплекте |
| Уровень вакуума | 10^-3 Торр (механический насос); 10^-4 Торр (молекулярный насос) |
| Работа с газом | Один расходомер (16 - 160 мл/мин), установленный на передней панели |
| Вакуумметр | Цифровой манометр в комплекте (Диапазон: 10^-4 - 1000 Торр) |
| Требования к водяному охлаждению | Расход ≥ 10 л/мин; Температура < 25ºC; Давление > 25 PSI |
| Соответствие стандартам | Сертификация UL/CSA (UL 61010) доступна по запросу |
Почему стоит выбрать эту систему
- Разработана для скорости: Архитектура нагрева на основе галогенных ламп обеспечивает время термического отклика, недостижимое для обычных резистивных печей, сокращая время обработки и расширяя возможности передовых исследований материалов.
- Исключительная однородность: Благодаря использованию держателя образцов из нитрида алюминия, это устройство преодолевает проблемы температурных градиентов, характерные для высокоскоростных печей, обеспечивая стабильные свойства тонких пленок по всей подложке.
- Качество сборки промышленного уровня: Оборудование изготовлено из высококачественных материалов, оснащено защитными блокировками и фланцами с водяным охлаждением, что обеспечивает долгосрочную эксплуатационную стабильность в требовательных лабораторных и промышленных средах НИОКР.
- Универсальная и масштабируемая платформа: Независимо от того, выполняете ли вы стандартный отжиг или сложный процесс CVD, модульная конструкция позволяет легко интегрировать вакуумные насосы, системы подачи газа и специализированные подложки для образцов.
- Точность и прослеживаемость: Благодаря встроенной связи с ПК и 30-сегментному программированию каждый термический цикл точно контролируется и документируется, что соответствует строгим стандартам современного материаловедения.
Свяжитесь с нашей командой технических специалистов сегодня, чтобы получить подробное коммерческое предложение или обсудить индивидуальное термическое решение, адаптированное к вашим конкретным исследовательским требованиям.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Печь для быстрой термической обработки RTP с контролируемой атмосферой и нижней загрузкой, 1100°C, высокая производительность, скорость нагрева 50°C в секунду
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой печью RTP с нижней загрузкой на 1100°C, оснащенной сверхбыстрым нагревом 50°C/с и контролем атмосферы. Эта высокопроизводительная система интегрируется с роботизированными манипуляторами для автоматизированного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига пластин диаметром до 6 дюймов.
Печь быстрой термообработки с нижней загрузкой и регулируемой атмосферой, 1100°C, скорость нагрева 50°C/с, для отжига пластин
Достигните пиковой эффективности с этой печью быстрой термообработки с нижней загрузкой на 1100°C, скоростью нагрева 50°C/с и автоматическим регулированием атмосферы. Идеально подходит для высокопроизводительного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига полупроводниковых пластин диаметром до шести дюймов в условиях передовых научных исследований.
Печь для быстрой термической обработки (RTP) 1100°C с нижней загрузкой и контролем атмосферы для отжига пластин и исследований катализа
Эта печь RTP с нижней загрузкой и рабочей температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев со скоростью 50°C/с для отжига пластин и каталитических процессов. Благодаря автоматизированному контролю атмосферы и интеграции с робототехникой, система гарантирует высокую точность и производительность для требовательных промышленных НИОКР и материаловедения, обеспечивая стабильную надежность и непревзойденные характеристики.
Сверхбыстрая печь для термопрессования, максимальная температура 2900°C, скорость нагрева 200K в секунду, система быстрого вакуумного атмосферного процесса
Эта сверхбыстрая печь для термопрессования с температурой 2900°C обеспечивает скорость нагрева более 200K/с для передовых исследований и разработок. Благодаря точному вакуумному контролю и встроенному механическому прижиму с грузами система предоставляет высокопроизводительные решения для исследований в области материаловедения и приложений быстрого термического процесса.
Печь с контролируемой атмосферой и быстрым нагревом до 1500°C для материаловедения и спекания порошков для аккумуляторов
Оптимизируйте НИОКР в области материалов с помощью этой печи с контролируемой атмосферой и быстрым нагревом до 1500°C. Благодаря двухзонной точности и быстрому термоциклированию она идеально подходит для синтеза катодов для аккумуляторов и промышленного спекания в инертной или обогащённой кислородом среде, обеспечивая превосходные результаты.
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Оптимизируйте синтез материалов с помощью этой скоростной трубчатой печи RTP с максимальной температурой 900°C. Разработанная для быстрого ИК-нагрева со скоростью 50°C/с и автоматизированного охлаждения, она обеспечивает точный контроль для исследований графена, углеродных нанотрубок и перовскитных солнечных элементов.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Сдвижная трубчатая печь с максимальной температурой 1200°C, кварцевой трубкой 80 мм (внешний диаметр) и вакуумными фланцами для быстрой термической обработки, ускоренного нагрева и охлаждения
Выполняйте быструю термическую обработку с помощью этой сдвижной трубчатой печи с максимальной температурой 1200°C. Благодаря кварцевой трубке с внешним диаметром 80 мм и ручному механизму сдвига, печь обеспечивает исключительную скорость нагрева и охлаждения до 100°C в минуту, что идеально подходит для передовых исследований материалов и промышленных НИОКР.
Компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь с вакуумными фланцами из нержавеющей стали для быстрой термической закалки и обработки материалов в контролируемой атмосфере
Эта компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь, разработанная для высокоточных исследований, обеспечивает быстрый нагрев до 1100°C. Оснащенная вакуумными фланцами из нержавеющей стали и 30-сегментным программируемым управлением, она является незаменимым инструментом для материаловедения и промышленных процессов закалки. Надежная производительность.
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Высокопроизводительная двухзонная ИК-печь RTP с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и двумя подвижными держателями образцов. Обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с для передовых исследований в области синтеза 2D-материалов, сверхпроводимости и прецизионного высокоскоростного осаждения из паровой фазы.
Печь для быстрой термической обработки 950°C для 12-дюймовых пластин с методом CSS-напыления и вращающимся держателем подложки
Эта прецизионная печь для быстрой термической обработки (RTP) с температурой до 950°C оснащена вращающимся держателем подложек для 12-дюймовых пластин и двухзонным ИК-нагревом. Разработанная для передового CSS-напыления (сублимация в узком зазоре) и отжига полупроводников, она обеспечивает равномерное осаждение тонких пленок в условиях высокого вакуума для промышленных исследований.
Печь для ультрабыстрого нагрева и прессования при высокой температуре 2900°C, макс. 100 кгс, система быстрого термического процесса
Разработанная для быстрого термического процесса, эта печь для ультрабыстрого нагрева и прессования с максимальной температурой 2900°C обеспечивает скорость нагрева 180°C/с и давление 100 кгс. Идеально подходит для flash-синтеринга и передовых исследований и разработок материалов; эта высоковакуумная система гарантирует высочайшую точность, проверенную надежность и экономичную промышленную производительность.
Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения
Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.
Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм
Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.
Высокотемпературная 1200°C 5-дюймовая сдвижная трубчатая печь для быстрого термического отжига (RTP) и отжига пластин
Ускорьте свои исследования материалов с помощью этой сдвижной трубчатой печи на 1200°C, предназначенной для быстрого термического отжига. Оснащенная 5-дюймовой кварцевой трубкой и двойными ПИД-контроллерами, она обеспечивает точные скорости нагрева и охлаждения для передовых полупроводниковых приложений.
Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки
Эта профессиональная трубчатая печь 1200C оснащена ручным магнитным механизмом скольжения образца, специально разработанным для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки. Она обеспечивает точный контроль температуры и стабильный рост материалов для требовательных научно-исследовательских и промышленных применений в области материаловедения.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Высокотемпературная печь быстрого термического отжига (800°C) с вращающимся держателем образцов для сублимации в квазизамкнутом объеме и исследований тонкопленочных солнечных элементов
Эта передовая печь для CSS (сублимации в квазизамкнутом объеме) и RTP (быстрого термического отжига) с рабочей температурой 800°C оснащена двумя галогенными нагревателями и вращающимся держателем подложек размером 5x5 дюймов. Система разработана для быстрого термического процесса при создании тонкопленочных фотоэлектрических элементов и обеспечивает точный контроль, высокую однородность и превосходное охлаждение.
Высокотемпературные вращающиеся наклонные трубчатые печи для передовой обработки материалов и спекания порошков
Передовые высокотемпературные вращающиеся наклонные трубчатые печи, разработанные для равномерного спекания порошков и обработки материалов. Благодаря динамическому вращению, прецизионному ПИД-регулированию и автоматизированному наклону, эта профессиональная система обеспечивает гомогенную термическую обработку для самых требовательных промышленных и научно-исследовательских задач.
Высокотемпературная вращающаяся трубчатая печь с кварцевой трубкой и вакуумным фланцем для синтеза материалов
Расширьте свои исследования материалов с помощью этой прецизионной вращающейся трубчатой печи, оснащённой высокочистой кварцевой трубкой и вакуумными фланцами. Созданная для равномерной термообработки, она обеспечивает стабильное перемешивание образца для превосходного синтеза термоэлектрических материалов и роста передовых 2D-кристаллов.
