Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C

Печь RTP

Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C

Артикул: TU-RT04

Максимальная рабочая температура: 1100°C Скорость нагрева/охлаждения: >100°C/мин (посредством перемещения) Размеры трубки: 2 дюйма (внешний диаметр) x 39 дюймов (длина), кварц
Гарантия качества Fast Delivery Global Support

Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Обзор продукта

Изображение продукта 1

Изображение продукта 1

Эта высокопроизводительная автоматизированная сдвижная трубчатая печь представляет собой вершину технологий быстрой термической обработки для материаловедения и промышленных исследовательских лабораторий. Благодаря интеграции прецизионного моторизованного механизма сдвига и рабочей среды из высокочистого кварца, система обеспечивает беспрецедентный контроль над траекториями нагрева и охлаждения. Основное преимущество заключается в возможности мгновенного перемещения образцов между зонами с комнатной и высокой температурой, что позволяет проводить процессы закалки и быстрого термического отжига, невозможные в статических конфигурациях печей. Эта возможность необходима исследователям, изучающим фазовые переходы, кинетические реакции и рост тонких пленок, где требуется строгий контроль термической истории.

Оборудование, разработанное в первую очередь для полупроводниковой, аэрокосмической промышленности и индустрии передовой керамики, отлично подходит для таких задач, как химическое осаждение из газовой фазы (CVD), быстрый отжиг пластин и синтез 1D и 2D наноматериалов. Надежная конструкция гарантирует сохранение высокого уровня вакуума или специфического состава атмосферы во время высокоскоростного перемещения. Для отделов закупок промышленных предприятий это устройство представляет собой универсальную платформу, которая связывает лабораторные эксперименты с пилотным термическим профилированием, обеспечивая оптимизацию свойств материалов за счет контролируемого и воспроизводимого термического цикла.

Надежность является основой конструкции данного устройства. Благодаря двухслойной стальной структуре с активным воздушным охлаждением, система остается безопасной для прикосновения даже при длительной работе на максимальной температуре 1100°C. Использование высококачественных нагревательных элементов из сплава Fe-Cr-Al, легированного молибденом, обеспечивает долгосрочную стабильность и устойчивость к термической усталости. Независимо от того, работает ли оборудование под высоким вакуумом или при контролируемом потоке газа, оно обеспечивает стабильные и воспроизводимые результаты, предоставляя исследовательским группам уверенность, необходимую для сложных промышленных процессов и циклов разработки чувствительных материалов.

Основные характеристики

  • Прецизионный автоматизированный механизм сдвига: В печи используется моторизованная система линейных направляющих, которая позволяет автоматически перемещать зону нагрева относительно положения образца. Это обеспечивает мгновенное воздействие предварительно нагретой среды печи или быстрое охлаждение за счет конвекции окружающего воздуха, достигая скорости нагрева и охлаждения более 100°C/мин.
  • Усовершенствованное управление термическим профилем: Система оснащена 30-сегментным программируемым ПИД-контроллером, который обеспечивает тщательное регулирование температурных рамп, времени выдержки и кривых охлаждения. Контроллер также управляет логикой сдвига, позволяя пользователям синхронизировать движение печи с конкретными этапами термического рецепта для полностью автономной работы.
  • Рабочая среда из высокочистого кварца: Система оснащена трубкой из высокочистого плавленого кварца с внешним диаметром 2 дюйма, обеспечивающей чистую, нереактивную камеру для чувствительных химических процессов. Эта среда идеально подходит для предотвращения загрязнения при легировании полупроводников или синтезе углеродных нанотрубок, где чистота материала имеет первостепенное значение.
  • Двухкорпусное принудительное воздушное охлаждение: Инженерное совершенство отражено в стальном корпусе печи с двойными стенками. Встроенные вентиляторы охлаждения поддерживают постоянный поток воздуха между внутренней и внешней оболочками, гарантируя, что температура внешней поверхности остается ниже 70°C для безопасности оператора и долговечности оборудования.
  • Герметичная атмосфера и вакуумный контроль: Устройство включает фланцы из нержавеющей стали, готовые к работе с высоким вакуумом, со встроенными игольчатыми клапанами и манометрами. Это позволяет проводить обработку в среде инертного газа, восстановительной атмосфере или при высоком вакууме (до 10E-5 торр с дополнительными турбомолекулярными насосами), поддерживая широкий спектр химических и металлургических реакций.
  • Повышенная долговечность нагревательных элементов: Благодаря использованию элементов из сплава Fe-Cr-Al, легированного молибденом, печь достигает превосходной устойчивости к окислению и провисанию при высоких температурах. Этот металлургический выбор обеспечивает стабильную зону нагрева и продлевает срок службы оборудования в условиях интенсивной эксплуатации в НИОКР.
  • Встроенные системы безопасности и сигнализации: Для обеспечения работы без присмотра система включает встроенную защиту от перегрева и звуковую сигнализацию. Высокоточная термопара K-типа обеспечивает обратную связь с контроллером в режиме реального времени, гарантируя безопасное отключение системы при выходе параметров за пределы запрограммированных пределов безопасности.
  • Гибкие конфигурации питания: Оборудование разработано для бесшовной интеграции в разнообразные лабораторные инфраструктуры по всему миру, предлагая настраиваемые варианты питания для работы от 120 В переменного тока или 208-240 В переменного тока, обеспечивая совместимость без необходимости проведения масштабных модификаций объекта.

Области применения

Применение Описание Ключевое преимущество
Отжиг полупроводников Быстрая термическая обработка кремниевых пластин для активации легирующих примесей или устранения повреждений кристаллической решетки. Предотвращает нежелательную диффузию примесей за счет сверхбыстрого охлаждения.
CVD-синтез Химическое осаждение из газовой фазы для выращивания графена, углеродных нанотрубок или дихалькогенидов переходных металлов. Высокая герметичность вакуума и точный контроль потока газа обеспечивают равномерный рост пленок.
Закалка материалов Мгновенный переход металлургических образцов от высокой температуры к комнатной. Облегчает изучение метастабильных фаз и уточнение структуры зерна.
Исследования аккумуляторов Кальцинация и термическая обработка порошков катодов/анодов в контролируемой атмосфере. Постоянная равномерность температуры обеспечивает стабильность материала от партии к партии.
Осаждение тонких пленок Термическое испарение или импульсное лазерное осаждение в кварцевой среде. Кварцевая трубка высокой чистоты предотвращает загрязнение образца во время высокотемпературных циклов.
Спекание керамики Высокотемпературная обработка передовых керамических компонентов и композитных материалов. Автоматизированный сдвиг позволяет контролировать охлаждение для предотвращения растрескивания от теплового удара.
Атмосферные испытания Воздействие на материалы специфических газовых сред (Ar, N2, H2) при повышенных температурах. Двойные игольчатые клапаны позволяют точно смешивать газы и регулировать давление.

Технические характеристики

Параметр Спецификация для TU-RT04
Идентификация модели TU-RT04
Структура Двухслойный стальной корпус с охлаждающими вентиляторами; температура поверхности < 70°C
Система сдвига Моторизованная одинарная направляющая для автоматического продольного перемещения
Макс. рабочая температура 1100°C (атмосферное давление) / 1000°C (вакуум)
Длина зоны нагрева 8 дюймов (200 мм), одна зона
Зона постоянной температуры 2,3 дюйма (60 мм) в пределах ±1°C при 1000°C
Нагревательные элементы Сплав Fe-Cr-Al, легированный молибденом
Рабочая трубка Высокочистый плавленый кварц; 2" ВД x 1,81" ВД x 39" Д (50 x 44 x 1000 мм)
Скорость нагрева (макс.) 15°C/сек (от комн. до 150°C) до 0,5°C/сек (800-1000°C)
Скорость охлаждения (макс.) 15°C/сек (1000-950°C) до 0,5°C/сек (400-300°C)
Стабильность температуры ±1°C
Температурный контроллер 30-сегментный программируемый ПИД; сигнализация перегрева; логика сдвига
Управление сдвигом Электродвигатель; ручное или программируемое через контроллер
Уровень вакуума 10E-2 торр (механический насос) / 10E-5 торр (турбонасос)
Фланцы Вакуумно-герметичные из нержавеющей стали с игольчатыми клапанами и манометром
Макс. давление < 3 фунтов на кв. дюйм (изб.)
Электропитание 120 В перем. тока (20 А, 1,2 кВА) ИЛИ 208-240 В перем. тока (15 А, 1,5 кВА)
Соответствие стандартам Сертификат CE; NRTL/CSA доступны по запросу
Компоненты безопасности Внутренние радиационные блоки из пенокерамики; термопара K-типа

Почему стоит выбрать TU-RT04

  • Превосходная термическая динамика: Автоматизированный механизм сдвига обеспечивает самые быстрые скорости нагрева и охлаждения в своем классе, позволяя исследователям расширять границы кинетики материалов и термической обработки.
  • Прецизионная инженерия и качество сборки: Конструкция с акцентом на промышленную долговечность, двухкорпусный дизайн и высококачественные сплавы гарантируют, что это устройство выдержит суровые условия интенсивных исследований и разработок.
  • Готовое решение для вакуумной интеграции: В отличие от стандартных трубчатых печей, эта система полностью оснащена герметичными фланцами и инструментами для мониторинга вакуума, что позволяет немедленно приступить к работе в чувствительных к вакууму приложениях.
  • Расширенные возможности автоматизации: Синхронизация температурных профилей с физическим перемещением печи снижает вероятность человеческой ошибки и гарантирует, что каждый образец обрабатывается с абсолютной воспроизводимостью.
  • Настраиваемость и масштабируемость: От интеграции с LabVIEW для удаленной регистрации данных до специализированных обновлений фланцев для портов KF-25 — система может быть адаптирована для удовлетворения конкретных требований сложных промышленных рабочих процессов.

Эта система является идеальной инвестицией для лабораторий, стремящихся перейти от ручных процессов нагрева к высокоточному автоматизированному термическому циклированию. Пожалуйста, свяжитесь с нашим отделом технического маркетинга сегодня для получения официального коммерческого предложения или обсуждения индивидуальной конфигурации под ваши конкретные задачи в области материаловедения.

Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Максимально компактная печь PECVD с авто-скольжением, 1200°C, трубкой 2 дюйма и вакуумным насосом

Максимально компактная печь PECVD с авто-скольжением, 1200°C, трубкой 2 дюйма и вакуумным насосом

Эта компактная печь PECVD с авто-скольжением на 1200°C оснащена трубкой 2 дюйма и встроенным вакуумным насосом. Идеально подходит для низкотемпературного осаждения тонких плёнок; использует RF-плазму мощностью 300 Вт для превосходного контроля стехиометрии и быстрого термического процесса в передовых исследованиях промышленных материалов.

Трубчатая печь 1100°C с вакуумным фланцем и программируемым контроллером температуры для материаловедения и промышленной термообработки

Трубчатая печь 1100°C с вакуумным фланцем и программируемым контроллером температуры для материаловедения и промышленной термообработки

Оптимизируйте лабораторную термообработку с помощью этой универсальной трубчатой печи на 1100°C, оснащенной программируемым ПИД-контроллером и высоковакуумными фланцами. Разработанная для прецизионного синтеза материалов и промышленных НИОКР, она предлагает гибкость ориентации (горизонтальная/вертикальная) и стабильную равномерность температуры для самых требовательных задач.

Многопозиционная трубчатая печь 1100°C для лабораторных исследований материалов и передовой промышленной термической обработки

Многопозиционная трубчатая печь 1100°C для лабораторных исследований материалов и передовой промышленной термической обработки

Эта многопозиционная трубчатая печь обеспечивает прецизионный нагрев до 1100°C с возможностью вертикальной и горизонтальной ориентации. Разработанная для передовых исследований материалов, она оснащена 30-сегментным ПИД-контроллером и высокочистой волокнистой изоляцией для исключительной термической стабильности и надежной работы в промышленных лабораториях.

Сдвижная трубчатая печь с максимальной температурой 1200°C, кварцевой трубкой 80 мм (внешний диаметр) и вакуумными фланцами для быстрой термической обработки, ускоренного нагрева и охлаждения

Сдвижная трубчатая печь с максимальной температурой 1200°C, кварцевой трубкой 80 мм (внешний диаметр) и вакуумными фланцами для быстрой термической обработки, ускоренного нагрева и охлаждения

Выполняйте быструю термическую обработку с помощью этой сдвижной трубчатой печи с максимальной температурой 1200°C. Благодаря кварцевой трубке с внешним диаметром 80 мм и ручному механизму сдвига, печь обеспечивает исключительную скорость нагрева и охлаждения до 100°C в минуту, что идеально подходит для передовых исследований материалов и промышленных НИОКР.

5-дюймовая двухзонная ротационная трубчатая печь 1100°C для порошкового CVD и синтеза материалов

5-дюймовая двухзонная ротационная трубчатая печь 1100°C для порошкового CVD и синтеза материалов

Повысьте эффективность исследований материалов с нашей высокоточной двухзонной ротационной трубчатой печью 1100°C. Специально разработанная для равномерного порошкового CVD и синтеза ядро-оболочка, эта 5-дюймовая кварцевая система обеспечивает расширенный контроль атмосферы и оптимизацию независимой двухзонной термообработки.

Вертикальная лабораторная печь 1100°C для трубчатых реакторов собственной сборки с ПИД-регулятором температуры

Вертикальная лабораторная печь 1100°C для трубчатых реакторов собственной сборки с ПИД-регулятором температуры

Максимизируйте эффективность исследований с помощью этой вертикальной печи на 1100°C, разработанной для создания трубчатых реакторов по индивидуальному заказу. Эта высокоточная термическая система с усовершенствованным ПИД-управлением и возможностью установки труб диаметром до 2 дюймов обеспечивает стабильные и надежные результаты в материаловедении и промышленных НИОКР.

Вертикальная трубчатая печь с разъемным корпусом 1100°C, кварцевой трубкой 80 мм и вакуумными фланцами из нержавеющей стали

Вертикальная трубчатая печь с разъемным корпусом 1100°C, кварцевой трубкой 80 мм и вакуумными фланцами из нержавеющей стали

Эта высокопроизводительная вертикальная трубчатая печь с разъемным корпусом (1100°C) оснащена кварцевой трубкой диаметром 80 мм, вакуумными фланцами из нержавеющей стали и точным 30-сегментным ПИД-контроллером. Разработана для НИОКР в области материалов, быстрой закалки и термической обработки в контролируемой атмосфере в профессиональных промышленных лабораториях.

Автоматическая трубчатая печь 1200 C для исследований материалов с помощью ИИ с наружным диаметром 6 дюймов и скользящим фланцем

Автоматическая трубчатая печь 1200 C для исследований материалов с помощью ИИ с наружным диаметром 6 дюймов и скользящим фланцем

Ускорьте открытие материалов с помощью этой премиальной автоматической трубчатой печи, разработанной для исследований на основе ИИ. Эта система с диаметром 6 дюймов и двухзонным нагревом обеспечивает роботизированную интеграцию и непрерывный синтез 24/7 для высокопроизводительных промышленных и лабораторных исследований и разработок.

Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм

Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм

Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.

Кварцевая трубчатая печь диаметром 1100°C с зоной нагрева 24 дюйма и фланцами с водяным охлаждением

Кварцевая трубчатая печь диаметром 1100°C с зоной нагрева 24 дюйма и фланцами с водяным охлаждением

Эта кварцевая трубчатая печь диаметром 1100°C оснащена зоной нагрева 24 дюйма и фланцами с водяным охлаждением для точной обработки методом CVD. Идеально подходит для материаловедческих исследований и промышленных НИОКР, обеспечивая исключительную термическую стабильность и надежные тепловые характеристики.

12-зонная сверхдлинная трубчатая печь с кварцевой трубкой длиной 20 футов (6 м) и максимальной температурой 1100°C

12-зонная сверхдлинная трубчатая печь с кварцевой трубкой длиной 20 футов (6 м) и максимальной температурой 1100°C

Эта высокоточная 12-зонная трубчатая печь с разъемным корпусом предлагает зону нагрева длиной шесть метров и максимальную температуру 1100°C для работы с длинномерными образцами. Благодаря независимому ПИД-регулированию и фланцам для работы в вакууме, она обеспечивает исключительную равномерность нагрева для передовых исследований в области материаловедения и НИОКР.

Трубчатая печь с внутренним подвижным тигелем 1200°C для осаждения тонких пленок в контролируемой атмосфере и исследования сублимации материалов

Трубчатая печь с внутренним подвижным тигелем 1200°C для осаждения тонких пленок в контролируемой атмосфере и исследования сублимации материалов

Эта раздвижная трубчатая печь 1200°C оснащена автоматическим внутренним тигельным механизмом для точного позиционирования образцов в контролируемых атмосферах. Идеально подходит для приложений PVD и DVD, обеспечивает превосходную консистентность роста пленок и эффективность термической обработки для лабораторий исследования современных материалов.

Высокотемпературная кварцевая камерная печь 1100°C, внешний диаметр 8 дюймов, объем 7,6 литра, с возможностью работы в вакууме

Высокотемпературная кварцевая камерная печь 1100°C, внешний диаметр 8 дюймов, объем 7,6 литра, с возможностью работы в вакууме

Расширьте возможности вашей лаборатории с помощью этой кварцевой камерной печи на 1100°C с внешним диаметром 8 дюймов и объемом 7,6 литра. Эта система, разработанная для работы в вакууме и контролируемой атмосфере, обеспечивает прецизионную термическую обработку для передовых исследований материалов и производства полупроводников.

Двухзонная сдвижная трубчатая печь 1200°C для выращивания 2D-материалов и синтеза методом TCVD

Двухзонная сдвижная трубчатая печь 1200°C для выращивания 2D-материалов и синтеза методом TCVD

Оптимизируйте передовой синтез 2D-материалов с помощью этой двухпечной системы 1200°C, оснащенной сдвижной зоной нагрева для сверхбыстрого охлаждения, независимым ПИД-регулированием температуры и кварцевой рабочей камерой высокой чистоты, разработанной для прецизионного термического химического осаждения из газовой фазы (TCVD) и НИОКР.

Высокотемпературная автоматическая раздвижная двухзонная трубчатая печь на 1200°C для выращивания 2D дихалькогенидов переходных металлов и исследования сублимации материалов

Высокотемпературная автоматическая раздвижная двухзонная трубчатая печь на 1200°C для выращивания 2D дихалькогенидов переходных металлов и исследования сублимации материалов

Освойте синтез 2D-материалов с помощью этой автоматической раздвижной двухпечной системы на 1200°C, разработанной для выращивания TMD. Особенности: независимые зоны сублимации и осаждения для точного теплового контроля и высокой скорости охлаждения, обеспечивающие высококачественные результаты исследований по производству тонкопленочных кристаллов.

Двухзонная трубчатая печь 1200°C со сдвижным механизмом и фланцами для процессов PECVD

Двухзонная трубчатая печь 1200°C со сдвижным механизмом и фланцами для процессов PECVD

Ускорьте исследования материалов с помощью этой двухзонной сдвижной трубчатой печи 1200°C, разработанной для точных процессов плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD). Оснащенная мощным ВЧ-плазменным генератором и возможностями быстрого термического отжига, она обеспечивает исключительную равномерность пленок и стабильные результаты для передовых промышленных НИОКР.

Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки

Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки

Эта профессиональная трубчатая печь 1200C оснащена ручным магнитным механизмом скольжения образца, специально разработанным для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки. Она обеспечивает точный контроль температуры и стабильный рост материалов для требовательных научно-исследовательских и промышленных применений в области материаловедения.

Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма

Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма

Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.

Печь вертикального скольжения на 1200°C с возможностями быстрой термической обработки и гибридной вакуумной трубки

Печь вертикального скольжения на 1200°C с возможностями быстрой термической обработки и гибридной вакуумной трубки

Максимизируйте эффективность исследований с этой печью вертикального скольжения на 1200°C, оснащенной возможностями быстрой термической обработки. Эта гибридная система предлагает двойную функциональность: камерную и вакуумно-трубчатую, обеспечивая точный контроль температуры и сверхбыстрый нагрев или охлаждение для передовых применений в материаловедении.

Двухзонная сдвижная трубчатая печь до 1200°C с фланцами 50 мм для CVD

Двухзонная сдвижная трубчатая печь до 1200°C с фланцами 50 мм для CVD

Эта двухзонная сдвижная трубчатая печь с рабочей температурой до 1200°C оснащена кварцевыми фланцами диаметром 50 мм, специально разработанными для высокоточных процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD). Ускорьте промышленные исследования и разработки благодаря быстрому нагреву и охлаждению за счет сдвига печи, что обеспечивает превосходный синтез материалов, стабильные результаты и высочайшую эффективность осаждения тонких пленок.