Сверхбыстрая печь для термопрессования, максимальная температура 2900°C, скорость нагрева 200K в секунду, система быстрого вакуумного атмосферного процесса

Печь RTP

Сверхбыстрая печь для термопрессования, максимальная температура 2900°C, скорость нагрева 200K в секунду, система быстрого вакуумного атмосферного процесса

Артикул: TU-RT18

Максимальная рабочая температура: 2900°C Скорость нагрева: ≤ 200 °C / секунда Уровень вакуума: 10^-5 Торр (с турбомолекулярным насосом)
Гарантия качества Fast Delivery Global Support

Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Обзор продукта

Изображение продукта 2

Эта высокопроизводительная сверхбыстрая система термопрессования представляет собой вершину технологии быстрого термического процесса и специально разработана для высокотемпературных исследовательских сред, требующих экстремально высокой скорости нагрева. Способная достигать температур до 2900°C при скорости нагрева, превышающей 200°C в секунду, эта установка предоставляет специализированную платформу для изучения свойств материалов в условиях сильного перегрева. Сочетая высоковакуумный контроль атмосферы со встроенными возможностями механического прессования, система позволяет исследователям моделировать экстремальные промышленные условия и синтезировать новые материалы, требующие быстрой кристаллизации или неравновесных условий обработки.

Основное назначение этого оборудования охватывает передовое материаловедение, металлургию и исследования полупроводников. Оно служит важным инструментом для высокопроизводительного поиска новых материалов, позволяя быстро тестировать множество образцов при различных профилях давления и температуры. Помимо своей основной функции термопрессовочной установки, универсальная архитектура системы позволяет настроить её как высокоскоростную печь отжига или модифицировать в установку для нанесения плёнок методом Close-Spaced Sublimation (CSS). Такая адаптивность обеспечивает сохранение установки в качестве ключевого актива в междисциплинарных лабораториях, занимающихся тонкоплёночными солнечными элементами, передовой керамикой и высокоэнтропийными сплавами.

Построенная на компонентах промышленного класса и прочной кварцево-стальной архитектуре, система рассчитана на долговременную стабильность работы в требовательных условиях НИОКР. Интеграция мощной подачи постоянного тока и точно обработанных вольфрамовых или графитовых нагревательных элементов обеспечивает воспроизводимую работу при интенсивных термоциклах. Команды закупок и руководители лабораторий могут рассчитывать на это оборудование благодаря исключительному качеству сборки, соответствию требованиям безопасности и точности, необходимой для получения надёжных данных, пригодных для публикации, в конкурентной области современного материаловедения.

Ключевые особенности

  • Экстремальная скорость нагрева: Эта система обеспечивает скорость нагрева до 200°C в секунду, позволяя исследователям изучать метастабильные фазы и быструю термическую кинетику, недоступные при использовании обычных лабораторных печей.
  • Высокотемпературная производительность: Спроектирована для поддержания стабильности при пиковых температурах 2900°C, установка позволяет обрабатывать ультравысокотемпературную керамику, тугоплавкие металлы и современные углеродные материалы.
  • Точный контроль атмосферы: Благодаря высокочистой 6-дюймовой кварцевой трубке и фланцам из нержавеющей стали вакуумная камера поддерживает уровень вакуума 10^-2 torr при использовании механических насосов или до 10^-5 torr при интеграции с турбомолекулярной насосной системой.
  • Встроенное прессование с грузами: Оборудование включает вакуумно-герметичную подвижную штанговую сборку, которая прикладывает до 10 кг механического давления посредством калиброванных грузов, обеспечивая одновременную термообработку и уплотнение.
  • Продвинутые нагревательные элементы: Оснащённая 2-дюймовыми вольфрамовыми дисками или графитовой фольгой, нагревательная сборка использует низковольтное высокотоковое питание постоянного тока для обеспечения быстрого термического отклика и равномерного нагрева поверхности образца.
  • Два режима управления: Операторы могут переключаться между ручным нагревом для достижения максимальной скорости и программируемым температурным управлением с помощью высокоточных ИК-датчиков и цифровых дисплеев для сложных температурных профилей.
  • Масштабируемые возможности давления: Хотя стандартная версия использует систему с грузами, её можно модернизировать до электромоторного механизма давления и цифровых датчиков, способных прикладывать усилие до 100 кг для высокодавленческого уплотнения.
  • Оптимизированное тепловое отражение: Внутренняя камера может быть оснащена опциональным золотым покрытием на кварцевой трубке для усиления отражения тепла, повышения тепловой эффективности и защиты чувствительных внешних компонентов от излучаемого тепла.
  • Универсальная работа с образцами: Регулируемый зазор между нагревательными фольгами позволяет работать с образцами толщиной до 1,0 мм и диаметром до 35 мм, а также обрабатывать несколько образцов одновременно для высокопроизводительных исследований.

Применения

Область применения Описание Ключевое преимущество
Высокоэнтропийные сплавы Быстрый синтез и закалка многокомпонентных металлических систем для стабилизации неравновесных твёрдых растворов. Предотвращает сегрегацию элементов благодаря сверхбыстрым циклам охлаждения и нагрева.
Передовая керамика Уплотнение ультравысокотемпературной керамики (UHTC) под контролируемым давлением и в вакуумной атмосфере. Обеспечивает высокую плотность при минимальном росте зёрен благодаря сокращённому времени обработки.
Отжиг полупроводников Быстрый термический процесс (RTP) кремниевых или составных полупроводниковых пластин для активации легирующих примесей или восстановления решётчатых повреждений. Точный контроль теплового бюджета для сохранения мелких профилей p-n-переходов.
Нанесение тонких плёнок CSS Модификация системы в установку Close-Spaced Sublimation для осаждения тонких полупроводниковых плёнок, таких как CdTe. Высококачественный рост плёнок с отличным стехиометрическим контролем и кристаллической структурой.
Материалы с фазовым переходом Изучение кинетики быстрых фазовых переходов в халькогенидных стёклах и других материалах, важных для памяти. Позволяет моделировать среды высокоскоростного переключения в лабораторном масштабе.
Соединение тугоплавких металлов Диффузионная сварка в твёрдой фазе или пайка тугоплавких металлов при температурах выше 2000°C. Прочные, чистые соединения, получаемые в высоком вакууме, предотвращающем окисление.
Исследования углеродных наноструктур Высокотемпературная обработка графена, углеродных нанотрубок или углерод-углеродных композитов. Обеспечивает экстремальную тепловую энергию, необходимую для отжига структурных дефектов и графитизации.

Технические характеристики

Категория спецификации Подробности параметра Метрика TU-RT18
Тепловые характеристики Максимальная рабочая температура 2900°C
Максимальная скорость нагрева ≤ 200 °C / секунда
Продолжительность поддержания температуры 30 секунд (при макс. температуре)
Конструкция нагрева Нагревательные элементы Двойные вольфрамовые диски (толщина 0,2 мм) или графитовая фольга
Источник питания 208 - 240 VAC, 50/60Hz, трёхфазный
Выход трансформатора 20 кВт со вторичной обмоткой 20VDC
Максимальный ток 500A (DC)
Система давления Стандартный метод загрузки Вакуумно-герметичный подвижный шток с грузами по 1000 г
Входящие в комплект грузы 10 штук (всего 10 кг)
Опциональная нагрузка С электродвигателем и цифровым датчиком до 100 кг
Конструкция камеры Материал вакуумной трубки Высокочистый кварц (нар. диам. 216 мм, внутр. диам. 206 мм, длина 300 мм)
Тип фланца Нержавеющая сталь с входом/выходом газа и портом KF 25
Уровень вакуума 10^-2 torr (механический) до 10^-5 torr (турбомолекулярный насос)
Вместимость образцов Максимальный диаметр образца 35 мм
Максимальная толщина образца 1,0 мм
Поддержка нескольких образцов Доступно для высокопроизводительных исследований
Управление и охлаждение Измерение температуры Цифровой ИК-датчик температуры и дисплей
Режимы управления Ручной и программируемый PID
Требования к охлаждению Требуется рециркуляционный водоохладитель (например, KJ5000)
Регуляторные требования Соответствие Сертификация CE (NRTL/CSA доступны опционально)

Почему стоит выбрать эту систему

  • Непревзойдённая термодинамика: Эта установка обеспечивает одни из самых высоких в отрасли скоростей нагрева, предоставляя важное преимущество исследователям, изучающим неравновесные состояния материалов и сверхбыструю кинетику.
  • Прочная многофункциональная конструкция: Помимо термопрессования, способность системы переходить в установку для RTP-отжига или CSS-нанесения плёнок обеспечивает исключительную ценность и гибкость для меняющихся лабораторных задач.
  • Превосходное качество сборки: Использование высокочистого кварца, нержавеющей стали и вольфрамовых компонентов позволяет создавать оборудование, рассчитанное на интенсивную эксплуатацию при экстремальных температурах без ущерба для целостности вакуума или структурной стабильности.
  • Точное приложение давления: Система с грузами обеспечивает постоянное давление, основанное на гравитации, не подверженное электронному дрейфу, а опциональная моторизованная модернизация позволяет проводить сложные эксперименты с контролем усилия.
  • Полная поддержка и настройка: Мы предоставляем расширенную техническую поддержку и возможность адаптировать нагревательные элементы, вакуумные конфигурации и механизмы давления под конкретные исследовательские задачи.

Это оборудование предлагает беспрецедентное сочетание диапазона температур, скорости нагрева и контроля атмосферы для современной лаборатории. Свяжитесь с нашей технической службой продаж сегодня, чтобы получить подробное коммерческое предложение или обсудить индивидуальную конфигурацию, адаптированную к вашим конкретным задачам обработки материалов.

Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Печь для ультрабыстрого нагрева и прессования при высокой температуре 2900°C, макс. 100 кгс, система быстрого термического процесса

Печь для ультрабыстрого нагрева и прессования при высокой температуре 2900°C, макс. 100 кгс, система быстрого термического процесса

Разработанная для быстрого термического процесса, эта печь для ультрабыстрого нагрева и прессования с максимальной температурой 2900°C обеспечивает скорость нагрева 180°C/с и давление 100 кгс. Идеально подходит для flash-синтеринга и передовых исследований и разработок материалов; эта высоковакуумная система гарантирует высочайшую точность, проверенную надежность и экономичную промышленную производительность.

Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения

Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения

Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.

Печь для быстрой термической обработки 950°C для 12-дюймовых пластин с методом CSS-напыления и вращающимся держателем подложки

Печь для быстрой термической обработки 950°C для 12-дюймовых пластин с методом CSS-напыления и вращающимся держателем подложки

Эта прецизионная печь для быстрой термической обработки (RTP) с температурой до 950°C оснащена вращающимся держателем подложек для 12-дюймовых пластин и двухзонным ИК-нагревом. Разработанная для передового CSS-напыления (сублимация в узком зазоре) и отжига полупроводников, она обеспечивает равномерное осаждение тонких пленок в условиях высокого вакуума для промышленных исследований.

Высокотемпературная трубчатая печь 1700°C с системой турбомолекулярного насоса высокого вакуума и многоканальным газовым смесителем с контроллерами массового расхода

Высокотемпературная трубчатая печь 1700°C с системой турбомолекулярного насоса высокого вакуума и многоканальным газовым смесителем с контроллерами массового расхода

Эта современная высокотемпературная трубчатая печь (1700°C) объединяет прецизионную систему турбомолекулярного высоковакуумного насоса и многоканальный газовый смеситель с контроллерами массового расхода, обеспечивая исключительную производительность для сложных процессов CVD, диффузии и материаловедческих исследований в требовательных промышленных R&D средах.

Печь для быстрой термической обработки RTP с контролируемой атмосферой и нижней загрузкой, 1100°C, высокая производительность, скорость нагрева 50°C в секунду

Печь для быстрой термической обработки RTP с контролируемой атмосферой и нижней загрузкой, 1100°C, высокая производительность, скорость нагрева 50°C в секунду

Максимизируйте эффективность НИОКР с этой печью RTP с нижней загрузкой на 1100°C, оснащенной сверхбыстрым нагревом 50°C/с и контролем атмосферы. Эта высокопроизводительная система интегрируется с роботизированными манипуляторами для автоматизированного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига пластин диаметром до 6 дюймов.

Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм

Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм

Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.

Высокотемпературная вакуумная печь 1000°C с камерой 8 дюймов для спекания материалов и исследовательского отжига

Высокотемпературная вакуумная печь 1000°C с камерой 8 дюймов для спекания материалов и исследовательского отжига

Достигайте превосходных результатов термической обработки с помощью этой вакуумной печи на 1000°C, оснащенной камерой диаметром 8 дюймов для прецизионного спекания и пайки. Эта двухзонная система обеспечивает сверхвысокий уровень вакуума и ПИД-регулирование Eurotherm для требовательных промышленных НИОКР в области материаловедения.

Высоковакуумный пресс для таблетирования с ультрабыстрым нагревом до 2500°C и автоматизированной системой загрузки на 8 образцов

Высоковакуумный пресс для таблетирования с ультрабыстрым нагревом до 2500°C и автоматизированной системой загрузки на 8 образцов

Обеспечьте быструю термическую обработку с помощью этого высоковакуумного пресса для таблетирования (до 2500°C), оснащенного функцией ультрабыстрого нагрева и автоматизированной системой загрузки на 8 образцов. Идеально подходит для передовых исследований материалов, обеспечивая точные результаты спекания благодаря высокоскоростной роботизированной обработке образцов и высокой производительности автоматизации для лабораторий.

Вакуумная индукционная печь сверхвысокой температуры с возможностью электролиза расплавленных солей и прецизионным контролем до 3000 градусов

Вакуумная индукционная печь сверхвысокой температуры с возможностью электролиза расплавленных солей и прецизионным контролем до 3000 градусов

Прецизионная вакуумная индукционная печь с рабочей температурой 3000ºC, разработанная для высокочистой графитизации и спекания керамики. Эта универсальная термическая система оснащена передовой индукционной технологией и опциональными функциями электролиза расплавленных солей для самых требовательных современных промышленных исследований и разработок в области материаловедения.

Печь муфельная с контролируемой атмосферой, максимальная температура 1700°C, высокая вместимость 80 л, вакуумная печь с инертным газом

Печь муфельная с контролируемой атмосферой, максимальная температура 1700°C, высокая вместимость 80 л, вакуумная печь с инертным газом

Высокопроизводительная муфельная печь с контролируемой атмосферой до 1700°C и вместимостью 80 л для передовых материаловедческих исследований. Оснащена нагревательными элементами MoSi2 и точным PID-управлением для работы в средах инертного газа, вакуума и кислорода в промышленных НИОКР и опытно-промышленных производственных задачах.

Компактная высокотемпературная автоматическая печь с нижней загрузкой и быстрым охлаждением для автономных исследований материалов

Компактная высокотемпературная автоматическая печь с нижней загрузкой и быстрым охлаждением для автономных исследований материалов

Повысьте производительность НИОКР с помощью этой компактной автоматической печи с нижней загрузкой (1500°C), оснащенной функцией быстрого охлаждения и совместимостью с системами автоматизации для интеграции в перчаточные боксы или роботизированные рабочие процессы в передовых промышленных лабораториях и исследовательских центрах материаловедения, нуждающихся в высокоточных решениях для термообработки.

Высокотемпературная трубчатая печь качающегося типа 1100°C с 2-дюймовой рабочей трубой из суперсплава для синтеза материалов

Высокотемпературная трубчатая печь качающегося типа 1100°C с 2-дюймовой рабочей трубой из суперсплава для синтеза материалов

Усовершенствованная высокотемпературная трубчатая печь качающегося типа (1100°C), оснащенная 2-дюймовой рабочей трубой из суперсплава для синтеза материалов под давлением. Система разработана для промышленных НИОКР и обеспечивает точный температурный контроль, автоматизированное качание и высокий уровень безопасности при проведении сложных процессов обработки материалов.

Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C

Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C

Усовершенствуйте свои исследования в области полупроводников с помощью этой компактной печи RTP с контролируемой атмосферой. Оснащенная 4-дюймовой кварцевой трубкой и рассчитанная на температуру 1100°C, она обеспечивает скорость нагрева 50°C/сек для прецизионного отжига, процессов CVD и высокопроизводительной обработки материалов.

Высокотемпературная настольная трубчатая печь 1700°C с зоной нагрева 5 дюймов, высокочистой трубкой из оксида алюминия и вакуумными уплотнительными фланцами

Высокотемпературная настольная трубчатая печь 1700°C с зоной нагрева 5 дюймов, высокочистой трубкой из оксида алюминия и вакуумными уплотнительными фланцами

Эта высокотемпературная трубчатая печь 1700°C оснащена зоной нагрева длиной пять дюймов и трубкой из оксида алюминия для передовых материаловедческих исследований. Обеспечивает точный контроль атмосферы и вакуум до 50 мТорр для спекания, отжига и химического осаждения из паровой фазы.

Вертикальная трубчатая печь для сферификации порошков и спекания материалов, 1700°C

Вертикальная трубчатая печь для сферификации порошков и спекания материалов, 1700°C

Эта система вертикальной трубчатой печи на 1700°C оптимизирует процесс сферификации порошков для электродов аккумуляторов и 3D-печати. Оснащенная автоматическим питателем и двухзонным управлением, установка обеспечивает высокочистую обработку в вакууме или контролируемых атмосферах для превосходных применений в промышленных исследованиях материалов.

Высокотемпературная настольная муфельная печь 1500°C, 3,6 л, камера из глиноземного волокна, программируемый контроллер, система для спекания, отжига, карбонизации и термической обработки

Высокотемпературная настольная муфельная печь 1500°C, 3,6 л, камера из глиноземного волокна, программируемый контроллер, система для спекания, отжига, карбонизации и термической обработки

Эта прецизионная настольная муфельная печь на 1500°C оснащена камерой из глиноземного волокна объемом 3,6 л и усовершенствованным ПИД-контроллером для процессов спекания и отжига. Прочные нагревательные элементы из карбида кремния (SiC) и программируемый интерфейс обеспечивают стабильную термическую обработку для требовательных задач в области материаловедения и промышленных исследований и разработок.

Высоковакуумная камерная печь 800°C, 3,5 бар для спекания сверхпроводящих материалов

Высоковакуумная камерная печь 800°C, 3,5 бар для спекания сверхпроводящих материалов

Эта вакуумная камерная печь с рабочим давлением до 3,5 бар и температурой 800°C предназначена для научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ. Конструкция из нержавеющей стали 310S и многозонный нагрев обеспечивают высокую точность при обработке сверхпроводящих материалов и проведении передовых процессов спекания в сложных промышленных условиях.

Высокотемпературная вертикальная печь с контролируемой атмосферой 1700°C, автоматической нижней загрузкой и вакуумной термосистемой объемом 13 литров

Высокотемпературная вертикальная печь с контролируемой атмосферой 1700°C, автоматической нижней загрузкой и вакуумной термосистемой объемом 13 литров

Достигайте превосходных результатов термической обработки с помощью этой вертикальной печи с контролируемой атмосферой (1700°C), оснащенной автоматической нижней загрузкой, точными контроллерами Eurotherm и возможностями глубокого вакуума для передовых исследований материалов и сложных промышленных R&D задач.

Вакуумная тигельная печь 1100°C с кварцевой камерой для термообработки и спекания

Вакуумная тигельная печь 1100°C с кварцевой камерой для термообработки и спекания

Эта вакуумная тигельная печь 1100°C оснащена кварцевой камерой для точной термообработки. Предназначена для спекания и термической обработки в вакууме или инертной атмосфере, она обеспечивает стабильные результаты для исследований в области материаловедения, промышленной инженерии и профессиональных научно-исследовательских лабораторий.

Большая настольная высокотемпературная муфельная печь 1700°C с камерой 19 л для передового спекания и отжига материалов

Большая настольная высокотемпературная муфельная печь 1700°C с камерой 19 л для передового спекания и отжига материалов

Высокопроизводительная настольная муфельная печь 1700°C с камерой из глиноземистого волокна объемом 19 л и нагревательными элементами из дисилицида молибдена (MoSi2). Разработана для прецизионного спекания и отжига в промышленных НИОКР и стоматологических лабораториях, требующих надежной термической обработки и соблюдения стандартов безопасности CE.