Печь RTP
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Артикул: TU-RT28
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система быстрого термического отжига (RTP) разработана для передовых прикладных задач материаловедения, требующих экстремальных скоростей нагрева и точного контроля атмосферы. Благодаря использованию технологии коротковолнового инфракрасного (ИК) нагрева, оборудование обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с, что делает его незаменимым инструментом для лабораторий, занимающихся синтезом двумерных материалов, сверхпроводящих тонких пленок и отжигом полупроводников. Двухзонная конфигурация позволяет независимо управлять температурой в двух отдельных областях, что необходимо для сложных реакций в паровой фазе, где температурные градиенты критически важны для успеха процесса.
Система, специально разработанная для гибридного физико-химического осаждения из паровой фазы (HPCVD), предоставляет исследователям совершенную платформу для испарения твердых источников в одной зоне при поддержании контролируемой среды осаждения во второй. Наличие двух подвижных держателей образцов значительно повышает эффективность работы, позволяя быстро загружать, извлекать и закаливать образцы, не нарушая тепловое равновесие рабочей камеры печи. Данная установка представляет собой значительный шаг вперед в повышении производительности и стабильности термической обработки для требовательных научно-исследовательских сред.
Оборудование выполнено в двухслойном стальном корпусе со встроенным воздушным охлаждением, что обеспечивает безопасную температуру внешней поверхности даже во время циклов с высокой интенсивностью. Надежность заложена в каждом компоненте: от технологической трубки из высокочистого плавленого кварца до прецизионных направляющих. Печь спроектирована так, чтобы выдерживать суровые условия непрерывных промышленных исследований, обеспечивая стабильные и воспроизводимые результаты на протяжении тысяч часов эксплуатации в вакууме или среде инертного газа.
Основные характеристики
- Сверхбыстрый коротковолновый ИК-нагрев: Благодаря использованию шестнадцати галогенных нагревательных ламп мощностью 1,5 кВт каждая, система достигает максимальной скорости нагрева 50°C/с. Это позволяет проводить быстрый термический отжиг и точно контролировать кинетически управляемые превращения материалов, которые невозможно реализовать с помощью стандартных резистивных нагревательных элементов.
- Независимое управление двумя зонами: Две зоны нагрева по 195 мм управляются отдельными высокоточными тиристорными (SCR) контроллерами. Это позволяет создавать крутые температурные градиенты или идеально равномерные изотермические зоны общей длиной 390 мм, обеспечивая максимальную гибкость для процессов HPCVD и парофазного транспорта.
- Прецизионная система перемещения образцов: Установка оснащена двумя направляющими из хромированной стали, поддерживающими два держателя образцов. Этот механизм позволяет операторам перемещать образцы в горячую зону в нужный момент для мгновенного нагрева или выводить их в холодную зону для быстрой закалки.
- Усовершенствованное ПИД-управление температурой: Каждая зона оснащена цифровым контроллером с поддержкой 30 программируемых сегментов. Это позволяет автоматизировать сложные профили нагрева, выдержки и охлаждения с точностью ±1°C, обеспечивая высочайший уровень воспроизводимости при выращивании чувствительных тонких пленок.
- Надежная архитектура вакуумной и газовой систем: Печь оснащена фланцами из нержавеющей стали с водяным охлаждением, вакуумными портами KF25 и игольчатыми клапанами для точного регулирования атмосферы. С помощью молекулярного насоса достигается уровень вакуума до 10^-4 Торр, что делает систему подходящей для процессов, чувствительных к кислороду.
- Интегрированный интерфейс управления с ПК: В стандартную комплектацию входит модуль управления MTS-02, позволяющий пользователям управлять температурными профилями, записывать данные в реальном времени и контролировать тепловые характеристики через ПК. Эта цифровая интеграция необходима для современных лабораторий, ориентированных на работу с данными.
- Повышенная безопасность и охлаждение: Двухслойный стальной корпус оснащен активным воздушным охлаждением, поддерживающим температуру внешней оболочки ниже 60°C. Встроенная защита от перегрева и защита от обрыва термопары позволяют эксплуатировать устройство без постоянного присмотра.
- Высокочистый рабочий тракт: Технологическая трубка изготовлена из высокочистого плавленого кварца с внешним диаметром 110 мм и внутренним диаметром 106 мм. Это обеспечивает чистоту среды для обработки материалов и позволяет визуально контролировать реакцию во время высокотемпературных циклов.
Области применения
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Выращивание материалов HPCVD | Использование одной зоны для испарения твердого источника, а второй — для осаждения на подложку. | Точный контроль потока прекурсора и температуры роста. |
| Синтез 2D-материалов | Выращивание графена, MoS2 и других дихалькогенидов переходных металлов (TMD) с использованием быстрых термических циклов. | Оптимизированный размер зерна и качество кристаллов за счет быстрого нагрева. |
| Исследования сверхпроводников | Обработка сверхпроводящих тонких пленок и объемных материалов. | Высокая скорость нагрева способствует специфическим фазовым превращениям. |
| Быстрый термический отжиг | Постосадочная обработка полупроводниковых пластин и тонких пленок. | Минимизация диффузии легирующих примесей при активации электрических свойств. |
| Импульсная термическая обработка | Мгновенное воздействие высоких температур на образцы с помощью системы направляющих. | Фиксация метастабильных фаз за счет резких термических ударов. |
| Осаждение из паровой фазы | Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) современных покрытий и функциональных слоев. | Отличная равномерность и адгезия за счет контролируемой газодинамики. |
| НИОКР оптических покрытий | Термическая стабилизация многослойных оптических тонких пленок. | Стабильная термическая среда предотвращает отслоение слоев. |
Технические характеристики
| Параметр | Спецификация для TU-RT28 |
|---|---|
| Зоны нагрева | Две независимые зоны по 195 мм каждая (всего 390 мм) |
| Максимальная температура | 900°C (< 10 мин), 800°C (< 30 мин), 600°C (длительно) |
| Нагревательные элементы | 16 галогенных коротковолновых ИК-ламп по 1,5 кВт (расходный материал) |
| Общая мощность | AC 208-240В, одна фаза; макс. 24 кВт (требуется питание 100А) |
| Макс. скорость нагрева | От комн. до 800°C: 50°C/с; от 800°C до 900°C: 10°C/с |
| Макс. скорость охлаждения | 117°C/мин (атмосферное давление); 60°C/мин (200 мТорр) |
| Технологическая трубка | Высокочистый плавленый кварц: Φ110 (внеш.) × Φ106 (внутр.) × 740 (длина) мм |
| Система направляющих | Двойные хромированные стальные направляющие, длина 400 мм, два держателя образцов |
| Управление температурой | Двойные ПИД-контроллеры, 30 программируемых сегментов, тиристорное управление |
| Точность температуры | ±1°C |
| Термопара | Две K-типа, диаметр 1/4", длина 24" |
| Вакуумные фланцы | Нержавеющая сталь с водяным охлаждением; левый: ввод 1/4"; правый: KF25 с затворным клапаном |
| Уровень вакуума | 10^-2 Торр (механический насос); 10^-4 Торр (молекулярный насос) |
| Требования к охлаждению | Расход воды ≥ 10 л/мин; темп. < 25°C; давление > 25 PSI |
| Связь с ПК | Порт RS485 с модулем MTS-02; совместимость с LabView |
| Габариты | Разработана для настольного размещения или установки на стенд |
| Сертификация | Сертификат CE; NRTL (UL61010) или CSA доступны по запросу |
Почему стоит выбрать эту систему RTP
Выбор этого оборудования — это инвестиция в платформу, созданную для передовых рубежей материаловедения. Сочетание сверхбыстрого ИК-нагрева и прецизионного двухзонного управления позволяет реализовать экспериментальные рабочие процессы, которые недоступны традиционным резистивным печам. Наша инженерия сфокусирована на минимизации тепловой инерции и максимизации производительности, гарантируя, что ваши исследования ограничены только вашим воображением, а не оборудованием.
- Непревзойденная скорость нагрева: Скорость 50°C/с позволяет проводить высокопроизводительное тестирование и исследовать чувствительные к температуре фазовые диаграммы, требующие быстрой закалки.
- Прецизионная разработка для HPCVD: В отличие от однозонных установок, эта система оптимизирована для гибридного физико-химического осаждения, предоставляя возможность изолировать испарение источника от осаждения на подложку.
- Операционная универсальность: Система обеспечивает стабильную работу как в условиях высокого вакуума, так и в среде инертного газа. Система подвижных держателей образцов является ключевым отличием, снижающим воздействие на образцы нежелательных температурных градиентов.
- Проверенная надежность: Устройство, созданное с использованием компонентов промышленного класса (тиристоры, коротковолновые ИК-лампы, высокочистый кварц), рассчитано на длительный срок службы в требовательных научно-исследовательских условиях.
- Масштабируемые решения для управления: От ручного управления до полной интеграции с LabView на базе ПК — система развивается вместе с требованиями вашей лаборатории к управлению данными.
Эта система является «золотым стандартом» для быстрого термического отжига в современных исследованиях материалов. Свяжитесь с нашей командой технических специалистов сегодня, чтобы получить подробное коммерческое предложение или обсудить, как мы можем адаптировать эту систему под ваши специфические требования к осаждению из паровой фазы или отжигу.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Оптимизируйте синтез материалов с помощью этой скоростной трубчатой печи RTP с максимальной температурой 900°C. Разработанная для быстрого ИК-нагрева со скоростью 50°C/с и автоматизированного охлаждения, она обеспечивает точный контроль для исследований графена, углеродных нанотрубок и перовскитных солнечных элементов.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения
Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.
Двухзонная роторная трубчатая печь 1100°C с автоматической системой подачи и сбора для непрерывной обработки порошков
Максимизируйте эффективность термической обработки с этой двухзонной роторной трубчатой печью 1100°C. Оснащена интегрированной автоматической подачей и сбором для непрерывного спекания порошков, обеспечивая равномерное распределение тепла и высокоточные результаты для передовых исследований и разработок в области энергетических материалов.
Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C
Усовершенствуйте свои исследования в области полупроводников с помощью этой компактной печи RTP с контролируемой атмосферой. Оснащенная 4-дюймовой кварцевой трубкой и рассчитанная на температуру 1100°C, она обеспечивает скорость нагрева 50°C/сек для прецизионного отжига, процессов CVD и высокопроизводительной обработки материалов.
Двухзонная трубчатая печь быстрого нагрева с системой вакуумной атмосферы
Эта высокопроизводительная двухзонная трубчатая печь быстрого нагрева обеспечивает максимальную температуру 1200°C, скорость нагрева до 100°C в минуту, точное ПИД-регулирование и возможности работы в вакуумной атмосфере для передовых исследований материалов, спекания и процессов химического осаждения из газовой фазы.
Высокотемпературная двухзонная вращающаяся трубчатая печь 1700°C с трубкой из оксида алюминия 60 мм и точным управлением вращением
Эта высокопроизводительная двухзонная вращающаяся трубчатая печь 1700°C обеспечивает исключительную температурную равномерность для синтеза материалов. Благодаря независимому PID-управлению и высокочистой трубке из оксида алюминия она оптимизирована для стабильной обработки порошков и передовых исследований литий-ионных аккумуляторов, обеспечивая промышленный уровень качества.
Удлиненная двухзонная трубчатая печь для промышленных термообработок и исследований в области материаловедения
Эта удлиненная двухзонная трубчатая печь оснащена шведскими нагревательными элементами Kanthal A1 и усовершенствованной ПИД-системой управления для точных материаловедческих исследований. Благодаря возможности работы в вакууме и защитной среде, она обеспечивает превосходную температурную однородность и надежность для требовательных промышленных лабораторных процессов термообработки.
Двухзонная высокотемпературная трубчатая печь для материаловедческих исследований и профессиональной термической обработки
Усовершенствованная двухзонная трубчатая печь, разработанная для прецизионной термической обработки материалов, оснащенная шведскими нагревательными элементами Kanthal и сложной ПИД-системой управления для получения стабильных результатов в требовательных промышленных НИОКР и лабораторных условиях.
Двухзонная печь CSS для быстрого термического процесса и нанесения тонкопленочных покрытий, диаметр 3 дюйма, 650°C
Эта высокопроизводительная двухзонная печь для быстрого термического процесса (RTP) обеспечивает точное сублимационное осаждение в узком зазоре (CSS) и нанесение тонкопленочных покрытий при температуре до 650°C. Разработанная для НИОКР в области материаловедения, она предлагает исключительную скорость нагрева, двухзонное управление и надежные возможности вакуумирования для передовых исследований солнечных элементов.
Двухзонная вращающаяся трубчатая печь для порошкового CVD-покрытия и синтеза материалов типа «ядро-оболочка» 1100°C
Оптимизируйте обработку порошков с помощью этой высокопроизводительной двухзонной вращающейся трубчатой печи на 1100°C. Специально разработанная для CVD-покрытий и синтеза структур «ядро-оболочка», она оснащена пятидюймовой кварцевой трубкой и смесительными лопастями для обеспечения исключительной температурной однородности и стабильного производства партий материалов.
Высокотемпературная удлиненная двухзонная трубчатая печь для материаловедческих исследований и промышленной термообработки
Улучшите свои исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной удлиненной двухзонной трубчатой печи. Благодаря использованию шведских нагревательных элементов Kanthal A1 и передового ПИД-регулирования, печь обеспечивает исключительную равномерность нагрева до 1200°C для сложных лабораторных и промышленных научно-исследовательских задач в современной инженерии.
Высокотемпературная наклонная вращающаяся трубчатая печь со встроенным контролем массового расхода и многозонным нагревом
Эта высокопроизводительная наклонная вращающаяся трубчатая печь обеспечивает непрерывную обработку материалов с прецизионным контролем температуры и интеграцией многоканальной подачи газа. Разработанная для промышленных исследований и разработок (R&D), она гарантирует равномерную термическую обработку для синтеза передовых материалов и крупномасштабных металлургических испытаний.
Двухзонная трубчатая печь на 1100°C с 11-дюймовой кварцевой трубкой и вакуумными фланцами для обработки 8-дюймовых пластин
Эта передовая высокотемпературная двухзонная трубчатая печь спроектирована с 11-дюймовой кварцевой трубкой и 24-дюймовой зоной нагрева для обеспечения исключительной термической однородности при отжиге 8-дюймовых пластин, спекании материалов и является специализированным оборудованием для химического осаждения из газовой фазы для промышленных и лабораторных применений.
Двухзонная трубчатая печь с двумя крышками для высокотемпературного CVD-процесса и вакуумного отжига
Профессиональная высокотемпературная двухзонная трубчатая печь, оснащенная нагревательными элементами Kanthal A1 и передовой PID-системой управления для научно-исследовательских и промышленных задач. Эта система обеспечивает прецизионную термообработку для CVD-процессов, вакуумного отжига и спекания материалов с непревзойденной надежностью.
Двухзонная трубчатая печь 1500°C с разъемным корпусом, вакуумным фланцем и алюмооксидной трубкой 80 мм
Высокопроизводительная двухзонная трубчатая печь 1500°C с разъемным корпусом, оснащенная алюмооксидной трубкой 80 мм, нагревательными элементами из карбида кремния (SiC) и точным ПИД-регулированием. Идеально подходит для НИОКР в области материаловедения, химического осаждения из газовой фазы (CVD) и термической обработки в вакууме или различных газовых средах для передовых промышленных лабораторных исследований.
Компактная трубчатая печь со щелевым корпусом и двумя зонами нагрева до 1200°C с опциональными трубками 1"–2" и вакуумными фланцами
Эта компактная трубчатая печь со щелевым корпусом и двумя зонами нагрева до 1200°C обеспечивает точный контроль температурного градиента и возможность работы в вакууме. Разработанная для НИОКР в области материаловедения, она оснащена независимыми ПИД-регуляторами, фланцами из нержавеющей стали и энергоэффективной волокнистой теплоизоляцией для стабильной лабораторной работы.
Высокотемпературная трубчатая печь с тремя температурными зонами для спекания современных материалов и процессов химического осаждения из газовой фазы
Оптимизируйте термическую обработку с помощью этой прецизионной трехзонной трубчатой печи с максимальной температурой 1700°C и независимым ПИД-регулированием для превосходной равномерности нагрева. Идеально подходит для ВГД, вакуумного отжига и спекания материалов в передовых исследовательских и промышленных научно-исследовательских лабораториях или крупных производственных предприятиях
Десятизонная лабораторная трубчатая печь многоориентационного типа для высокотемпературной градиентной термообработки при 1200°C
Оптимизированная для сложных термических профилей, эта десятизонная печь обеспечивает точное регулирование температуры до 1200°C как в горизонтальном, так и в вертикальном положении. Идеально подходит для научно-исследовательских разработок в области материаловедения, требующих крупномасштабных температурных градиентов и надежной обработки в контролируемой атмосфере в системе с общей длиной нагрева 1470 мм.