Печь RTP
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Артикул: TU-RT01
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система скоростной термической обработки (RTP) разработана для удовлетворения строгих требований современных исследований в области материаловедения и промышленных НИОКР. Благодаря интеграции мощных инфракрасных (ИК) галогенных нагревательных элементов с прецизионным механизмом скольжения, данное оборудование обеспечивает сверхбыстрые термические циклы, необходимые для передовых методов синтеза. Основное преимущество этого устройства заключается в способности достигать экстремальных скоростей нагрева до 50°C/с при сохранении термической стабильности, необходимой для процессов роста тонких пленок и отжига.
Система, предназначенная в первую очередь для выращивания графена, углеродных нанотрубок (УНТ) и перовскитных солнечных элементов, отлично подходит для процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) и скоростного термического отжига (RTA). Универсальность делает её краеугольным камнем для лабораторий, специализирующихся на полупроводниках, нанотехнологиях и материалах для возобновляемых источников энергии. Оборудование обеспечивает контролируемую среду, в которой чистота атмосферы и температурные градиенты управляются с хирургической точностью, позволяя исследователям переходить от фазы нагрева к фазе охлаждения без нарушения структурной целостности подложки.
Надежность является приоритетом конструкции этой системы. Благодаря двухслойному стальному корпусу со встроенным воздушным охлаждением, устройство способно выдерживать длительные высокотемпературные операции, сохраняя при этом внешнюю поверхность безопасной для операторов. Каждый компонент, от трубки из высокочистого плавленого кварца до вакуумных фланцев из нержавеющей стали, выбран с учетом долговечности и производительности в условиях вакуума и низкого давления. Это обеспечивает стабильные, воспроизводимые результаты на протяжении сотен циклов, что делает систему надежной инвестицией для высокопроизводительных исследовательских сред.
Основные характеристики
- Скоростной инфракрасный галогенный нагрев: Используя восемь галогенных ламп мощностью 1 кВт каждая, система достигает лидирующей в отрасли скорости нагрева до 50°C/с. Это позволяет осуществлять практически мгновенные скачки температуры, что критически важно для минимизации диффузии легирующих примесей и достижения специфических кристаллических фаз в тонких пленках.
- Автоматизированный механизм скольжения для охлаждения: Печь установлена на моторизованной системе скольжения с двумя направляющими. По завершении программы нагрева устройство автоматически перемещается в сторону от зоны образца, в то время как встроенные вентиляторы обеспечивают активное воздушное охлаждение, позволяя достичь скорости охлаждения более 10°C/с для быстрой закалки.
- Усовершенствованное ПИД-регулирование температуры: Оборудование оснащено сложным ПИД-контроллером с 30 программируемыми сегментами. Это позволяет пользователям задавать сложные температурные профили, включая конкретные скорости нарастания, время выдержки и последовательности охлаждения, с точностью температуры ±1°C.
- Процессная среда из высокочистого кварца: Рабочая трубка с внешним диаметром 4 дюйма изготовлена из высокочистого плавленого кварца, что гарантирует отсутствие загрязнения образцов. Трубка большого диаметра позволяет проводить отжиг пластин диаметром до 3 дюймов, обеспечивая достаточно места для пакетной обработки.
- Комплексная интеграция вакуума: Оснащенная вакуумными фланцами из нержавеющей стали и цифровым вакуумметром, система готова к немедленному использованию в условиях высокого вакуума или контролируемой атмосферы. Правый фланец шарнирного типа упрощает загрузку и выгрузку образцов, значительно сокращая время простоя между экспериментами.
- Двухзонная система мониторинга: Используются две термопары K-типа: одна управляет внутренними нагревательными элементами печи, а другая размещается непосредственно в зоне образца. Этот контур двойной обратной связи гарантирует, что отображаемая температура является фактической температурой материала.
- Улучшенные протоколы безопасности: Система включает встроенную защиту от перегрева и обрыва термопары. Эти аппаратные функции безопасности позволяют эксплуатировать устройство без присмотра, обеспечивая спокойствие во время длительных циклов отжига или сложных CVD-процессов.
- Надежная механическая инфраструктура: Стол скольжения приводится в движение двигателем постоянного тока с высоким крутящим моментом и поддерживается хромированными стальными направляющими. Такая усиленная конструкция обеспечивает плавное движение без вибраций, что необходимо для сохранения выравнивания хрупких образцов во время быстрых переходов.
Области применения
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Синтез графена | Рост крупноплощадного графена методом CVD на медной или никелевой фольге. | Быстрый нагрев и охлаждение оптимизируют размер зерен и однородность слоев. |
| Рост углеродных нанотрубок | Контролируемое осаждение однослойных или многослойных УНТ. | Точный контроль температуры обеспечивает стабильную активацию катализатора и скорость роста. |
| Перовскитные солнечные элементы | Скоростной термический отжиг тонких пленок перовскита для улучшения кристалличности. | Высокая скорость нагрева минимизирует испарение свинца и улучшает морфологию пленки. |
| Отжиг полупроводников | Скоростная термическая обработка (RTP) кремниевых или сложных полупроводниковых пластин. | Минимизирует тепловой бюджет и предотвращает нежелательное перераспределение легирующих примесей. |
| Осаждение тонких пленок | Разработка диэлектриков с высоким k и металлических тонких пленок для электроники. | Контролируемые атмосферные условия предотвращают окисление и обеспечивают чистоту пленки. |
| Исследование 2D-материалов | Изучение MoS2 и других дихалькогенидов переходных металлов. | Высокоскоростное термическое циклирование позволяет быстро проверять параметры роста. |
| Изучение фаз материалов | Исследование температурно-зависимых фазовых переходов в сплавах. | Возможность быстрой закалки образцов сохраняет высокотемпературные фазы для анализа. |
Технические характеристики
| Категория | Параметр | Спецификация (TU-RT01) |
|---|---|---|
| Термические характеристики | Макс. температура нагрева | 900°C (< 1 часа); 800°C (< 120 мин); 600°C (непрерывно) |
| Макс. скорость нагрева | 50 °C/с | |
| Макс. скорость охлаждения | 8 °C/с (от 1000°C до 600°C через механизм скольжения) | |
| Точность температуры | ± 1 °C | |
| Система нагрева | Нагревательные элементы | 8 шт. галогенных ламп по 1 кВт (длина нагрева 200 мм) |
| Срок службы элементов | Стандартно 2000 часов (зависит от использования) | |
| Термопары | Двойные K-типа (контроль и мониторинг образца) | |
| Рабочая трубка | Материал | Высокочистый плавленый кварц |
| Размеры | 100 мм ВД x 94 мм ВН x 1400 мм Д | |
| Макс. размер пластины | До 3 дюймов в диаметре | |
| Механическая система | Тип направляющих | Двойные хромированные стальные направляющие (длина 1200 мм) |
| Привод скольжения | Двигатель пост. тока с регулируемой скоростью (0-70 мм/с) | |
| Диапазон скольжения | 340 мм | |
| Управление и ПО | Тип контроллера | ПИД с 30 программируемыми сегментами |
| Связь | Порт RS485; модуль MTS-02 для управления с ПК в комплекте | |
| Функции безопасности | Защита от перегрева и обрыва термопары | |
| Вакуум и газ | Уровень вакуума | 10^-2 Торр (механический насос); 10^-4 Торр (молекулярный насос) |
| Тип фланца | Нержавеющая сталь; правый шарнирного типа для удобной загрузки | |
| Расходомер | Встроенный, диапазон 16-160 мл/мин | |
| Физические параметры и питание | Входная мощность | AC 208-240В, одна фаза, 50/60 Гц; макс. 9 кВт |
| Корпус | Двухслойная сталь с воздушным охлаждением | |
| Соответствие | Сертификат CE; NRTL (UL61010) или CSA доступны по запросу |
Почему стоит выбрать TU-RT01
- Превосходная термическая гибкость: В отличие от традиционных резистивных печей, эта система с ИК-нагревом обеспечивает скорость, необходимую для современного синтеза наноструктур, сокращая время обработки с часов до минут и позволяя получать уникальные свойства материалов.
- Прецизионная инженерия и качество сборки: От моторизованного стола скольжения до двухслойного охлаждаемого корпуса — каждый аспект этого устройства разработан для промышленной надежности и безопасности оператора в требовательных лабораторных условиях.
- Комплексный контроль процесса: Благодаря встроенной связи с ПК и мониторингу температуры на уровне образца, исследователи могут достичь уровня регистрации данных и воспроизводимости процессов, недоступного для стандартных трубчатых печей.
- Вакуумное решение «под ключ»: Включение высококачественных фланцев из нержавеющей стали, цифровых датчиков и прецизионных игольчатых клапанов означает, что система готова к использованию в условиях высокого вакуума сразу после установки.
- Проверенное наследие в материаловедении: Архитектура этой печи является задокументированным инструментом в выращивании передовых материалов, таких как перовскиты и графен, что подтверждается мировым опытом эксплуатации в ведущих исследовательских институтах.
Наша техническая команда готова помочь вам в настройке этой системы скоростной термической обработки в соответствии с вашими конкретными исследовательскими требованиями. Свяжитесь с нами сегодня для получения подробной технической консультации или официального коммерческого предложения.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Сдвижная трубчатая печь с максимальной температурой 1200°C, кварцевой трубкой 80 мм (внешний диаметр) и вакуумными фланцами для быстрой термической обработки, ускоренного нагрева и охлаждения
Выполняйте быструю термическую обработку с помощью этой сдвижной трубчатой печи с максимальной температурой 1200°C. Благодаря кварцевой трубке с внешним диаметром 80 мм и ручному механизму сдвига, печь обеспечивает исключительную скорость нагрева и охлаждения до 100°C в минуту, что идеально подходит для передовых исследований материалов и промышленных НИОКР.
Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения
Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.
Высокотемпературная 1200°C 5-дюймовая сдвижная трубчатая печь для быстрого термического отжига (RTP) и отжига пластин
Ускорьте свои исследования материалов с помощью этой сдвижной трубчатой печи на 1200°C, предназначенной для быстрого термического отжига. Оснащенная 5-дюймовой кварцевой трубкой и двойными ПИД-контроллерами, она обеспечивает точные скорости нагрева и охлаждения для передовых полупроводниковых приложений.
Печь вертикального скольжения на 1200°C с возможностями быстрой термической обработки и гибридной вакуумной трубки
Максимизируйте эффективность исследований с этой печью вертикального скольжения на 1200°C, оснащенной возможностями быстрой термической обработки. Эта гибридная система предлагает двойную функциональность: камерную и вакуумно-трубчатую, обеспечивая точный контроль температуры и сверхбыстрый нагрев или охлаждение для передовых применений в материаловедении.
Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм
Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки
Эта профессиональная трубчатая печь 1200C оснащена ручным магнитным механизмом скольжения образца, специально разработанным для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки. Она обеспечивает точный контроль температуры и стабильный рост материалов для требовательных научно-исследовательских и промышленных применений в области материаловедения.
Трубчатая печь 4 дюйма для высоких температур 1200°C со скользящим фланцем для систем CVD
Эта трубчатая печь 4 дюйма для температур до 1200°C оснащена скользящими фланцами для быстрой загрузки образцов и совместима с высоким вакуумом. Она разработана для прецизионных процессов химического осаждения из газовой фазы и передовых материаловедческих исследований, обеспечивая исключительно надёжную работу в сложных лабораторных условиях.
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Высокопроизводительная двухзонная ИК-печь RTP с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и двумя подвижными держателями образцов. Обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с для передовых исследований в области синтеза 2D-материалов, сверхпроводимости и прецизионного высокоскоростного осаждения из паровой фазы.
Высокотемпературные вращающиеся наклонные трубчатые печи для передовой обработки материалов и спекания порошков
Передовые высокотемпературные вращающиеся наклонные трубчатые печи, разработанные для равномерного спекания порошков и обработки материалов. Благодаря динамическому вращению, прецизионному ПИД-регулированию и автоматизированному наклону, эта профессиональная система обеспечивает гомогенную термическую обработку для самых требовательных промышленных и научно-исследовательских задач.
Высокотемпературная разъемная трубчатая печь 1500°C для исследований материалов, вакуумной и атмосферной термической обработки
Эта высокотемпературная разъемная трубчатая печь на 1500°C обеспечивает прецизионную термическую обработку для передовых исследований материалов и промышленного спекания. Она оснащена двухкорпусной конструкцией, встроенным ПИД-регулятором и вакуумными фланцами из нержавеющей стали для надежной работы в требовательных лабораторных условиях.
Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C
Усовершенствуйте свои исследования в области полупроводников с помощью этой компактной печи RTP с контролируемой атмосферой. Оснащенная 4-дюймовой кварцевой трубкой и рассчитанная на температуру 1100°C, она обеспечивает скорость нагрева 50°C/сек для прецизионного отжига, процессов CVD и высокопроизводительной обработки материалов.
Высокотемпературная наклонная вращающаяся трубчатая печь со встроенным контролем массового расхода и многозонным нагревом
Эта высокопроизводительная наклонная вращающаяся трубчатая печь обеспечивает непрерывную обработку материалов с прецизионным контролем температуры и интеграцией многоканальной подачи газа. Разработанная для промышленных исследований и разработок (R&D), она гарантирует равномерную термическую обработку для синтеза передовых материалов и крупномасштабных металлургических испытаний.
Высокотемпературная двухзонная вращающаяся трубчатая печь 1500°C с карбид-кремниевыми нагревателями для синтеза передовых материалов
Оптимизируйте термическую обработку с помощью этой высокоточной двухзонной вращающейся трубчатой печи. Благодаря максимальной температуре 1500°C и передовым нагревательным элементам из карбида кремния (SiC), она обеспечивает равномерные результаты для промышленных НИОКР, химического осаждения из газовой фазы и сложных приложений в области материаловедения в лабораториях по всему миру.
Трубчатая печь 1100°C с вакуумным фланцем и программируемым контроллером температуры для материаловедения и промышленной термообработки
Оптимизируйте лабораторную термообработку с помощью этой универсальной трубчатой печи на 1100°C, оснащенной программируемым ПИД-контроллером и высоковакуумными фланцами. Разработанная для прецизионного синтеза материалов и промышленных НИОКР, она предлагает гибкость ориентации (горизонтальная/вертикальная) и стабильную равномерность температуры для самых требовательных задач.
Двухзонная сдвижная трубчатая печь до 1200°C с фланцами 50 мм для CVD
Эта двухзонная сдвижная трубчатая печь с рабочей температурой до 1200°C оснащена кварцевыми фланцами диаметром 50 мм, специально разработанными для высокоточных процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD). Ускорьте промышленные исследования и разработки благодаря быстрому нагреву и охлаждению за счет сдвига печи, что обеспечивает превосходный синтез материалов, стабильные результаты и высочайшую эффективность осаждения тонких пленок.
Высокотемпературная вертикальная разъемная трубчатая печь 1700°C для закалки материалов и выращивания монокристаллов
Эта передовая вертикальная разъемная трубчатая печь с температурой 1700°C обеспечивает прецизионную термическую обработку для закалки материалов и выращивания монокристаллов. Система, разработанная для высокоэффективных НИОКР, поддерживает работу в вакууме и оснащена ПИД-регулированием для получения надежных и воспроизводимых результатов в требовательных условиях промышленных исследовательских лабораторий.
Двухзонная сдвижная трубчатая печь 1200°C для выращивания 2D-материалов и синтеза методом TCVD
Оптимизируйте передовой синтез 2D-материалов с помощью этой двухпечной системы 1200°C, оснащенной сдвижной зоной нагрева для сверхбыстрого охлаждения, независимым ПИД-регулированием температуры и кварцевой рабочей камерой высокой чистоты, разработанной для прецизионного термического химического осаждения из газовой фазы (TCVD) и НИОКР.
Высокотемпературная настольная трубчатая печь 1700°C с зоной нагрева 5 дюймов, высокочистой трубкой из оксида алюминия и вакуумными уплотнительными фланцами
Эта высокотемпературная трубчатая печь 1700°C оснащена зоной нагрева длиной пять дюймов и трубкой из оксида алюминия для передовых материаловедческих исследований. Обеспечивает точный контроль атмосферы и вакуум до 50 мТорр для спекания, отжига и химического осаждения из паровой фазы.