Печь RTP
Печь быстрой термообработки с нижней загрузкой и регулируемой атмосферой, 1100°C, скорость нагрева 50°C/с, для отжига пластин
Артикул: TU-RT29
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система быстрой термообработки (RTP) представляет собой значительный прогресс в технологии нагрева для материаловедения. Разработанная как полностью автоматическая установка с нижней загрузкой, она предоставляет исследователям и промышленным инженерам возможность получать экстремальные термические градиенты, недоступные для обычных муфельных или трубчатых печей. Благодаря использованию усовершенствованной коротковолновой инфракрасной нагревательной панели оборудование позволяет нагревать температуру со скоростью до 50°C в секунду, что делает его незаменимым инструментом для процессов, требующих точного кинетического контроля и минимального теплового воздействия. Конфигурация с нижней загрузкой специально спроектирована для обеспечения беспрепятственной интеграции с автоматизированными системами обработки, что гарантирует бережную и стабильную работу с деликатными образцами, включая полупроводниковые пластины диаметром до 6 дюймов.
Эта система, преимущественно используемая в производстве полупроводников, исследованиях в области передовой катализа и разработке тонких пленок, превосходно работает в условиях, где пропускная способность и воспроизводимость являются первостепенными задачами. Комбинация кварцевой трубы большого диаметра и герметичной системы фланцев позволяет проводить обработку в строго контролируемых атмосферах или условиях высокого вакуума. Независимо от того, стоит ли задача получения одноатомных катализаторов или быстрого отжига дорогостоящих электронных компонентов, эта установка обеспечивает стабильную, повторяемую среду, отвечающую строгим требованиям современных промышленных научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ (НИОКР). Надежная конструкция гарантирует, что даже при нагрузках быстрых термоциклов система сохраняет свою структурную целостность и точность, обеспечивая долгосрочную надежность для непрерывной работы лаборатории.
Разработанная с учетом перспектив автономных лабораторий, система имеет комплексную управляющую архитектуру, поддерживающую синхронизацию нескольких установок. Это позволяет одному оператору или централизованному компьютеру управлять целым парком печей, значительно повышая производительность отделов термообработки. Возможность взаимодействия оборудования с внешними роботизированными системами превращает ее из автономной печи в критический узел полностью автоматизированной производственной линии. Такая ориентация на подключение в сочетании с высококачественной изоляцией и точным регулированием мощности делает систему первоклассной инвестицией для объектов, стремящихся преодолеть разрыв между экспериментальными открытиями и промышленным масштабированием.
Ключевые особенности
- Сверхбыстрый коротковолновый инфракрасный нагрев: Оснащенная инфракрасной панелью из 12 ламп общей мощностью 18 кВт, эта система обеспечивает максимальную скорость нагрева 50°C/с, что позволяет проводить быструю термообработку, минимизируя диффузию легирующих примесей и оптимизируя рост зерен в тонких пленках.
- Автоматизированный механизм нижней загрузки: Точно спроектированная подъемная система автоматизирует загрузку и выгрузку образцов, снижая риск ошибок при ручной обработке и предоставляя необходимый физический интерфейс для полной интеграции роботов.
- Продвинутое регулирование атмосферы и вакуума: Оснащенная системой водоохлаждаемых фланцев из нержавеющей стали и встроенным регулятором массового расхода (MFC), установка поддерживает стабильную микроположительное давление или высоковакуумную среду для защиты чувствительных материалов от окисления.
- Высокопроизводительный автономный рабочий процесс: Система поддерживает программное обеспечение с открытым исходным кодом и стандартные протоколы связи (TCP/IP, Modbus), что позволяет одному ноутбуку управлять несколькими установками и координировать работу с роботизированными манипуляторами для непрерывной круглосуточной обработки образцов в автономном режиме.
- Совершенное ПИД-регулирование температуры: Интеллектуальный программируемый контроллер на 50 сегментов использует высокоточное силовое регулирование через СИФИД (SCR) для поддержания точности ±1°C, предусмотрена опциональная модернизация до точности ±0,1°C для наиболее требовательных метрологических задач.
- Двухслойная система терморегулирования: Камера печи имеет двухслойную конструкцию со встроенной системой воздушного охлаждения, что гарантирует безопасную температуру внешней поверхности при прикосновении и защищает внутренние компоненты от нагрузок при высокотемпературной работе.
- Встроенный сбор данных: Комплексное программное обеспечение непрерывно регистрирует температуру, давление и расход газа, создавая полный цифровой двойник термического цикла для контроля качества и документирования результатов НИОКР.
- Высокочистая алюминиевая волокнистая изоляция: Зона нагрева облицована высококачественным алюминиевым волокном, которое обладает превосходной термостойкостью и энергоэффективностью, обеспечивая быстрый выход на максимальную температуру 1100°C и ее поддержание с минимальными потерями тепла.
Области применения
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Отжиг полупроводниковых пластин | Быстрый термический отжиг пластин из кремния или карбида кремния диаметром до 6 дюймов для активации легирующих примесей или восстановления повреждений кристаллической решетки. | Минимальный тепловой бюджет предотвращает нежелательную диффузию легирующих элементов. |
| Одноатомная катализ | Обеспечение специализированных профилей нагрева, необходимых для синтеза и стабилизации одноатомных катализаторов на различных подложках. | Высокая скорость охлаждения предотвращает агрегацию атомов металла. |
| Кристаллизация тонких пленок | Быстрая термообработка функциональных тонких пленок для солнечных элементов, сенсоров или дисплейных технологий. | Оптимизация размера зерен и кристалличности за счет точного кинетического контроля. |
| Высокопроизводительное спекание | Автоматизированное спекание керамических или металлических порошковых заготовок с использованием роботизированной замены образцов. | Значительное сокращение времени циклов и затрат на персонал при опытном производстве. |
| Быстрое термическое окисление | Контролируемый рост тонких оксидных слоев на поверхности кремния в атмосферах высокочистого кислорода. | Превосходная равномерность толщины по всей поверхности образца. |
| Кремнезирование контактов | Формирование низкоомных металлических силицидных контактов при передовой технологии изготовления КМОП микросхем. | Точное поддержание температуры обеспечивает оптимальное формирование фазы. |
| Восстановление после ионной имплантации | Отжиг после имплантации для восстановления кристаллической структуры и электрической активации внедренных ионов. | Высокая скорость нагрева обеспечивает эффективную высокообъемную обработку. |
Технические характеристики
Система печи (Модель: TU-RT29)
| Параметр | Характеристики |
|---|---|
| Питание | Трехфазное переменное напряжение 208В, 50/60Гц |
| Максимальная мощность | 18 кВт |
| Максимальная рабочая температура | 1100°C (длительность работы ≤ 30 минут) |
| Непрерывная рабочая температура | 1000°C |
| Нагревательные элементы | 12 коротковолновых инфракрасных ламп (по 1,5 кВт каждая) |
| Размеры зоны нагрева | Φ210 мм × 100 мм |
| Размер кварцевой трубы | Φ200 мм |
| Рекомендуемая скорость нагрева | 10°C/с |
| Максимальная скорость нагрева | 50°C/с (от комнатной температуры до 900°C) |
| Скорость охлаждения (герметичный режим) | от 800°C до 350°C: 55°C/мин; от 350°C до 200°C: 5°C/мин |
| Скорость охлаждения (открытый режим) | от 800°C до 350°C: 200°C/мин; от 350°C до 50°C: 35°C/мин |
| Регулирование температуры | Автоматическое ПИД-регулирование, программирование до 50 сегментов |
| Точность регулирования | ±1°C (доступна опциональная модернизация до ±0,1°C) |
| Регулирование давления | Микроположительное давление (103 000–120 000 Па) |
| Регулятор массового расхода | Встроенный MFC диапазоном 0-5000 sccm |
| Вакуумный интерфейс | Предусмотрен вакуумный порт KF25; водоохлаждаемые фланцы из нержавеющей стали |
Опциональная система роботизированной помощи
| Особенность | Показатели производительности |
|---|---|
| Номинальная нагрузка | 5 кг |
| Рабочий радиус | 900 мм |
| Максимальная досягаемость манипулятора | 1096 мм |
| Точность повторного позиционирования | ±0,02 мм |
| Протоколы связи | TCP/IP, Modbus, беспроводная сеть |
| Потребляемая мощность | 150 Вт (типичное значение) |
Опциональные системы охлаждения и вакуума
| Аксессуар | Модель/Характеристики |
|---|---|
| Рециркуляционный чиллер | KJ6500: охлаждающая способность 51880 BTU/ч; компрессор мощностью 4,6-5,12 кВт |
| Механический вакуумный насос | Обеспечивает уровень вакуума 10⁻² Торр |
| Молекулярный вакуумный насос | Обеспечивает уровень вакуума 10⁻⁴ Торр |
| Пластинчато-роторный насос повышенной мощности | Сертификация NRTL, производительность 240 л/мин, с выхлопным фильтром |
Почему стоит выбрать нас
Выбор этой системы быстрой термообработки означает инвестицию в платформу, разработанную как для экстремальной точности, так и для промышленной масштабной эффективности. Основное преимущество заключается в специализированной технологии коротковолнового инфракрасного нагрева, которая обеспечивает такой уровень термического контроля и скорости, недоступный для традиционных печей с резистивным нагревом. Эта возможность особенно важна для современного материаловедения, где разница между прорывом и неудачей часто зависит от нескольких секунд воздействия или одного градуса отклонения температуры. Кроме того, архитектура с нижней загрузкой — это не просто удобство, это фундаментальное конструктивное решение, которое позволяет перейти к автономным НИОКР, позволяя вашей лаборатории работать круглосуточно с минимальным вмешательством человека.
Каждый компонент системы, от высокочистой кварцевой трубы до силового блока с СИФИД-регулированием, подобран с учетом способности выдерживать нагрузки быстрых термоциклов. Такой акцент на долговечности гарантирует, что ваша инвестиция будет сохранять высокую точность работы в течение многих лет эксплуатации, поддерживая стабильность ваших данных и качество вашей продукции. Благодаря модульным опциям интеграции робототехники, продвинутого охлаждения и высокого вакуума, это оборудование можно адаптировать под ваши конкретные технологические требования уже сегодня и модернизировать в соответствии с вашими исследовательскими задачами в будущем.
Свяжитесь с нашей командой технических продаж сегодня, чтобы получить детальную смету или обсудить индивидуальное решение для термообработки, адаптированное под ваши конкретные требования в рамках НИОКР.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Печь для быстрой термической обработки RTP с контролируемой атмосферой и нижней загрузкой, 1100°C, высокая производительность, скорость нагрева 50°C в секунду
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой печью RTP с нижней загрузкой на 1100°C, оснащенной сверхбыстрым нагревом 50°C/с и контролем атмосферы. Эта высокопроизводительная система интегрируется с роботизированными манипуляторами для автоматизированного синтеза одноатомных катализаторов и точного отжига пластин диаметром до 6 дюймов.
Печь для быстрой термической обработки (RTP) 1100°C с нижней загрузкой и контролем атмосферы для отжига пластин и исследований катализа
Эта печь RTP с нижней загрузкой и рабочей температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев со скоростью 50°C/с для отжига пластин и каталитических процессов. Благодаря автоматизированному контролю атмосферы и интеграции с робототехникой, система гарантирует высокую точность и производительность для требовательных промышленных НИОКР и материаловедения, обеспечивая стабильную надежность и непревзойденные характеристики.
Печь для быстрой термической обработки 950°C для 12-дюймовых пластин с методом CSS-напыления и вращающимся держателем подложки
Эта прецизионная печь для быстрой термической обработки (RTP) с температурой до 950°C оснащена вращающимся держателем подложек для 12-дюймовых пластин и двухзонным ИК-нагревом. Разработанная для передового CSS-напыления (сублимация в узком зазоре) и отжига полупроводников, она обеспечивает равномерное осаждение тонких пленок в условиях высокого вакуума для промышленных исследований.
Компактная печь для быстрого термического отжига (RTP) с контролируемой атмосферой и кварцевой трубкой с внутренним диаметром 4 дюйма, 1100°C
Усовершенствуйте свои исследования в области полупроводников с помощью этой компактной печи RTP с контролируемой атмосферой. Оснащенная 4-дюймовой кварцевой трубкой и рассчитанная на температуру 1100°C, она обеспечивает скорость нагрева 50°C/сек для прецизионного отжига, процессов CVD и высокопроизводительной обработки материалов.
Сверхбыстрая печь для термопрессования, максимальная температура 2900°C, скорость нагрева 200K в секунду, система быстрого вакуумного атмосферного процесса
Эта сверхбыстрая печь для термопрессования с температурой 2900°C обеспечивает скорость нагрева более 200K/с для передовых исследований и разработок. Благодаря точному вакуумному контролю и встроенному механическому прижиму с грузами система предоставляет высокопроизводительные решения для исследований в области материаловедения и приложений быстрого термического процесса.
Высокотемпературная 1200°C 5-дюймовая сдвижная трубчатая печь для быстрого термического отжига (RTP) и отжига пластин
Ускорьте свои исследования материалов с помощью этой сдвижной трубчатой печи на 1200°C, предназначенной для быстрого термического отжига. Оснащенная 5-дюймовой кварцевой трубкой и двойными ПИД-контроллерами, она обеспечивает точные скорости нагрева и охлаждения для передовых полупроводниковых приложений.
Печь для ультрабыстрого нагрева и прессования при высокой температуре 2900°C, макс. 100 кгс, система быстрого термического процесса
Разработанная для быстрого термического процесса, эта печь для ультрабыстрого нагрева и прессования с максимальной температурой 2900°C обеспечивает скорость нагрева 180°C/с и давление 100 кгс. Идеально подходит для flash-синтеринга и передовых исследований и разработок материалов; эта высоковакуумная система гарантирует высочайшую точность, проверенную надежность и экономичную промышленную производительность.
Высокотемпературная трехзонная муфельная печь с нижней загрузкой 1600°C и камерой для быстрой термической обработки, объем 72 л
Улучшите процессы термической обработки с помощью этой высокоточной трехзонной печи с нижней загрузкой, рабочей температурой 1600°C, объемом камеры 72 л и электрическим приводом загрузки. Система разработана для НИОКР в области материаловедения и обеспечивает исключительную равномерность температуры, быстрое охлаждение и расширенное управление ПЛК для сложных промышленных задач.
Высокотемпературная печь быстрого термического отжига (800°C) с вращающимся держателем образцов для сублимации в квазизамкнутом объеме и исследований тонкопленочных солнечных элементов
Эта передовая печь для CSS (сублимации в квазизамкнутом объеме) и RTP (быстрого термического отжига) с рабочей температурой 800°C оснащена двумя галогенными нагревателями и вращающимся держателем подложек размером 5x5 дюймов. Система разработана для быстрого термического процесса при создании тонкопленочных фотоэлектрических элементов и обеспечивает точный контроль, высокую однородность и превосходное охлаждение.
Высокотемпературная трубчатая печь 1500°C с раздвижными фланцами и внешним диаметром 50 мм для быстрого термического отжига, быстрого нагрева и охлаждения
Обеспечьте быстрый термический отжиг с помощью этой трубчатой печи с максимальной температурой 1500°C, оснащенной ручными раздвижными фланцами для ускоренного нагрева и охлаждения. Разработанная для исследований в области материаловедения, эта высокоточная система предлагает исключительные вакуумные характеристики и мониторинг с помощью двойного контроллера для требовательных лабораторных применений.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Печь с контролируемой атмосферой и быстрым нагревом до 1500°C для материаловедения и спекания порошков для аккумуляторов
Оптимизируйте НИОКР в области материалов с помощью этой печи с контролируемой атмосферой и быстрым нагревом до 1500°C. Благодаря двухзонной точности и быстрому термоциклированию она идеально подходит для синтеза катодов для аккумуляторов и промышленного спекания в инертной или обогащённой кислородом среде, обеспечивая превосходные результаты.
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Оптимизируйте синтез материалов с помощью этой скоростной трубчатой печи RTP с максимальной температурой 900°C. Разработанная для быстрого ИК-нагрева со скоростью 50°C/с и автоматизированного охлаждения, она обеспечивает точный контроль для исследований графена, углеродных нанотрубок и перовскитных солнечных элементов.
Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм
Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Высокотемпературная камерная печь с нижней загрузкой для быстрой термической обработки, 1700°C, объем 40 л
Профессиональная камерная печь с нижней загрузкой (1700°C) обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение для передовых исследований материалов. Благодаря автоматизированной загрузке и высокочистой изоляции эта система гарантирует точность термической обработки в требовательных промышленных лабораториях и исследовательских центрах по всему миру. Надежное качество.
Высокотемпературная вертикальная печь с контролируемой атмосферой, автоматической нижней загрузкой и рабочей температурой до 1700°C для передовых исследований материалов
Усовершенствованная вертикальная вакуумная печь с температурой до 1700°C, оснащенная автоматизированной системой нижней загрузки. Эта высокочистая система, разработанная для прецизионного спекания и отжига, включает камеры с водяным охлаждением и ПИД-контроллер Eurotherm для решения сложных задач промышленных исследований и разработок.
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Высокопроизводительная двухзонная ИК-печь RTP с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и двумя подвижными держателями образцов. Обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с для передовых исследований в области синтеза 2D-материалов, сверхпроводимости и прецизионного высокоскоростного осаждения из паровой фазы.
Автоматическая печь с нижней загрузкой, контролируемой атмосферой, 1200°C и кварцевой трубкой 6 дюймов
Усовершенствованная автоматическая печь с нижней загрузкой, контролируемой атмосферой, рассчитанная на 1200°C, оснащенная шестидюймовой кварцевой трубкой и двухзонным нагревом. Предназначена для высокопроизводительных исследований материалов и промышленных процессов термической обработки, требующих стабильной точности и полной интеграции автоматизации в научно-исследовательских лабораториях.
Компактная высокотемпературная печь с нижней загрузкой 1700°C, система быстрого нагрева и охлаждения, оборудование для термоциклирования малых образцов
Эта компактная печь с нижней загрузкой на 1700°C оснащена моторизованным подъемником для быстрой обработки образцов, точным PID-регулятором и современными нагревательными элементами из MoSi2, что делает ее идеальным решением для высокотемпературных исследований материалов и строгих испытаний на термоциклирование для промышленных лабораторных применений.