Установка PECVD
Система химического осаждения из паровой фазы CVD, трубчатая печь PECVD с выдвижным модулем и жидкостным газификатором, установка PECVD
Артикул: TU-PE01
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта высокопроизводительная система химического осаждения из паровой фазы (CVD) и плазмоусиленного химического осаждения из паровой фазы (PECVD) является вершиной технологии осаждения тонких пленок. Оборудование специально разработано для создания универсальной платформы для синтеза широкого спектра функциональных пленок, покрытий и наноструктур. Благодаря интеграции ВЧ-плазменного источника мощностью 500 Вт, прецизионной выдвижной трубчатой печи и усовершенствованного жидкостного газификатора, эта система позволяет осаждать высокочистые материалы при более низких температурах, чем традиционные термические процессы CVD. Основное преимущество заключается в возможности молекулярно-точного контроля морфологии и кристалличности пленки при сохранении высокой производительности за счет быстрого термического циклирования.
В основном оборудование используется в условиях передовых научных и промышленных исследований, играет ключевую роль в производстве полупроводников, изготовлении солнечных элементов и материаловедении. Оно разработано для удовлетворения строгих требований современных лабораторных рабочих процессов, позволяя исследователям легко переключаться между различными прекурсорами и параметрами осаждения. Эта установка особенно эффективна при разработке электроники нового поколения, высокоэффективных фотоэлектрических преобразователей и специализированных оптических покрытий, где однородность пленки и качество границы раздела фаз имеют первостепенное значение. Наличие жидкостного газификатора расширяет возможности установки, позволяя использовать жидкофазные прекурсоры, необходимые для многих современных органо-металлических и специализированных химических процессов.
Надежность и производительность являются основой этой системы термической обработки. Изготовлена с использованием высокочистой японской алюмооксидной волокнистой изоляции и прочных нагревательных элементов Cr2Al2Mo2, система обеспечивает стабильную термическую однородность по всей нагревательной зоне. Интегрированный раздвижной механизм не только обеспечивает быстрое охлаждение для сохранения чувствительных структур пленки, но и повышает безопасность и эффективность работы. Каждый компонент, от вакуумных фланцев из нержавеющей стали до современных регуляторов массового расхода, выбран за способность выдерживать сложные промышленные условия, что гарантирует получение воспроизводимых результатов в течение тысяч рабочих циклов с минимальными простоями.
Ключевые особенности
- Продвинутый ВЧ-плазменный источник: Система включает ВЧ-плазменный блок частотой 13,56 МГц с автоматической подстройкой и регулируемым диапазоном выходной мощности 5–500 Вт. Это обеспечивает стабильный тлеющий разряд и точное управление плотностью плазмы, позволяя осаждать тонкие пленки при значительно более низких температурах подложки по сравнению с традиционными термическими методами.
- Динамический механизм раздвижной печи: Камера печи установлена на раздвижную направляющую длиной 600 мм, что позволяет всей нагревательной установке отодвигаться от зоны реакции. Эта функция обеспечивает сверхбыструю скорость охлаждения и быстрый доступ к образцовой трубке, значительно сокращая время цикла партий и повышая производительность в загруженных лабораторных условиях.
- Высокоточная подача газа: Оборудовано четырехканальной системой регулятора массового расхода (MFC), устройство обеспечивает точное регулирование технологических газов, включая O₂, CH₄, H₂ и N₂. Это гарантирует стабильную подачу предварительно смешанного газа, что критически важно для поддержания химической стехиометрии и достижения равномерной толщины пленки по всей подложке.
- Интегрированный жидкостный газификатор: Специализированный блок жидкостной газификации позволяет системе работать с жидкими прекурсорами с той же точностью, что и с газообразными источниками. Эта возможность необходима для продвинутых процессов CVD, требующих специфических органо-металлических или химических прекурсоров, не доступных в газообразном состоянии.
- Совершенное термическое управление: Использование программируемого ПИД-контроллера с 7-дюймовым TFT-дисплеем позволяет системе поддерживать точность температуры ±1°C. Интерфейс обеспечивает визуализацию данных в реальном времени, анализ исторических данных и возможность сохранения сложных профилей нагрева, гарантируя воспроизводимые условия процесса.
- Конструкция из высококачественных материалов: Нагревательная камера облицована высокочистым алюмооксидным волокном из Японии, которое обеспечивает превосходную изоляцию и низкую аккумуляцию тепла. В сочетании с высокочистой кварцевой реакционной трубкой это гарантирует отсутствие загрязнений в технологической среде и возможность выдерживать температуры до 1200°C.
- Универсальная вакуумная инфраструктура: Установка имеет высококачественные вакуумные фланцы из нержавеющей стали с несколькими портами, что обеспечивает совместимость с различными насосными станциями. Независимо от того, используется ли стандартный пластинчато-роторный насос для среднего вакуума или диффузионный насос для высоковакуумных приложений, система поддерживает отличную герметичность и низкое базовое давление.
- Расширенные протоколы безопасности: Безопасность обеспечивается за счет интегрированной защиты от перегрузки по току и перегрева. Система также включает механизм обнаружения неисправности термопары и функцию перезапуска после отключения питания, которая автоматически возобновляет программу нагрева для защиты ценных образцов при непредвиденных перебоях электроснабжения.
- Оптимизированная обработка солнечных элементов: Доступны специально разработанные графитовые лодочки для повышения выходной мощности пластин солнечных элементов. Эта конструкция эффективно устраняет распространенную проблему разницы цветов, характерную для трубчатых процессов PECVD, обеспечивая эстетическую и функциональную однородность фотоэлектрической продукции.
Области применения
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Изготовление солнечных элементов | Осаждение антиотражающих покрытий и пассивирующих слоев на кремниевых пластинах. | Устраняет разброс цветов и повышает эффективность солнечного преобразования за счет превосходной однородности пленки. |
| Обработка полупроводников | Выращивание диэлектрических слоев, нитрида кремния и тонких пленок оксида кремния. | Низкотемпературная плазменная обработка предотвращает повреждение чувствительных нижележащих полупроводниковых структур. |
| Нанотехнологии | Синтез углеродных нанотрубок (CNT), графена и различных нанопроволок. | Точное управление соотношением газов и плотностью плазмы позволяет формировать наноструктуры с молекулярной точностью. |
| Оптика и фотоника | Осаждение многослойных оптических покрытий и волноводных материалов. | Исключительная ступенчатая покрываемость и конформность на сложных трехмерных микроструктурах для превосходных оптических характеристик. |
| Исследование материалов | Изучение новых тонкопленочных материалов и методов модификации поверхности. | Высокая гибкость температурных профилей и составов газов поддерживает разнообразные требования научно-исследовательских работ. |
| Твердые покрытия | Нанесение износостойких и коррозионностойких покрытий на промышленный инструмент. | Повышает долговечность и срок службы материалов за счет осаждения высокочистой плотной пленки. |
| Разработка сенсоров | Производство газовых и биосенсоров с использованием специализированных тонкопленочных слоев. | Высокоточное управление MFC обеспечивает точную химическую стехиометрию, необходимую для чувствительного детектирования. |
Технические характеристики
Параметры печи и термики
| Параметр | Характеристика (TU-PE01) |
|---|---|
| Максимальная температура | 1200℃ |
| Постоянная рабочая температура | 1100℃ |
| Материал трубки печи | Высокочистый кварц |
| Диаметр трубки печи | 60 мм |
| Длина нагревательной зоны | 450 мм (однозонная) |
| Изоляция камеры | Японское алюмооксидное волокно |
| Нагревательный элемент | Проволочная спираль Cr2Al2Mo2 |
| Скорость нагрева | 0–20℃/мин |
| Термопара | Встроенная K-типа |
| Точность терморегулирования | ±1℃ |
| Ход раздвижения | 600 мм |
ВЧ-плазменная система
| Параметр | Характеристика (TU-PE01) |
|---|---|
| Выходная мощность | 5–500 Вт, регулируемая |
| Стабильность мощности | ± 1% |
| ВЧ-частота | 13,56 МГц (стабильность ±0,005%) |
| Мощность отражения | максимум 350 Вт |
| Тип подстройки | Автоматический |
| Метод охлаждения | Воздушное |
| Уровень шума | <50 дБ |
Управление и подача газа
| Параметр | Характеристика (TU-PE01) |
|---|---|
| Тип расходомера | Массовый расходомер MFC |
| Количество каналов | 4 канала |
| Газовый канал 1 | 0–5 SCCM O₂ |
| Газовый канал 2 | 0–20 SCCM CH₄ |
| Газовый канал 3 | 0–100 SCCM H₂ |
| Газовый канал 4 | 0–500 SCCM N₂ |
| Линейность / Повторяемость | ±0,5% полной шкалы / ±0,2% полной шкалы |
| Материал трубопровода | Нержавеющая сталь |
| Максимальное рабочее давление | 0,45 МПа |
Варианты вакуумных характеристик
| Компонент | Стандартный вакуумный блок | Высоковакуумный блок (опционально) |
|---|---|---|
| Тип насоса | Пластинчато-роторный вакуумный насос | Пластинчато-роторный + форвакуумный диффузионный насос |
| Производительность | 4 л/с | 4 л/с + 110 л/с |
| Вакуумный порт | KF25 | KF25 |
| Вакуумметр | Пирани/резистивный вакуумметр | Комбинированный вакуумметр |
| Номинальное давление | 10 Па | 6 × 10⁻⁴ Па |
Почему стоит выбрать этот продукт
- Превосходная термическая инженерия: Благодаря сочетанию алюмооксидной волокнистой изоляции японского производства и высокоточных ПИД-регуляторов, эта система обеспечивает термическую стабильность, необходимую для самых чувствительных процессов роста материалов.
- Эксплуатационная эффективность: Инновационная конструкция раздвижной печи и автоматическая ВЧ-подстройка значительно снижают объем ручного труда и время, необходимое для каждого запуска, что делает это решение высокопроизводительным для загруженных лабораторий.
- Надежность и безопасность: С встроенными защитами от перегрева, скачков тока и отказа термопары система разработана для долговременной непрерывной работы в критических исследовательских условиях.
- Возможность полной кастомизации: Мы предлагаем услуги глубокой кастомизации для TU-PE01, включая специализированные газовые каналы, конфигурации с более высоким вакуумом и интеграцию пользовательского программного обеспечения для удовлетворения ваших конкретных требований научно-исследовательских работ.
- Непревзойденное качество тонких пленок: Точность четырехканальной системы MFC и стабильность ВЧ-источника 500 Вт гарантируют, что каждая осажденная пленка соответствует самым высоким стандартам однородности и чистоты.
Свяжитесь с нами сегодня, чтобы обсудить ваши конкретные требования к применению или получить индивидуальное предложение для ваших задач термической обработки.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Максимально компактная печь PECVD с авто-скольжением, 1200°C, трубкой 2 дюйма и вакуумным насосом
Эта компактная печь PECVD с авто-скольжением на 1200°C оснащена трубкой 2 дюйма и встроенным вакуумным насосом. Идеально подходит для низкотемпературного осаждения тонких плёнок; использует RF-плазму мощностью 300 Вт для превосходного контроля стехиометрии и быстрого термического процесса в передовых исследованиях промышленных материалов.
Двухзонная трубчатая печь 1200°C со сдвижным механизмом и фланцами для процессов PECVD
Ускорьте исследования материалов с помощью этой двухзонной сдвижной трубчатой печи 1200°C, разработанной для точных процессов плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD). Оснащенная мощным ВЧ-плазменным генератором и возможностями быстрого термического отжига, она обеспечивает исключительную равномерность пленок и стабильные результаты для передовых промышленных НИОКР.
Скользящая трубчатая печь 1200°C для быстрой термической обработки и роста графена методом CVD с диаметром трубки до 100 мм
Ускорьте свои исследования с помощью этой скользящей трубчатой печи на 1200°C, разработанной для быстрой термической обработки и CVD-процессов. Оснащена высокоточным ПЛК-контроллером и моторизованными направляющими для сверхбыстрых циклов нагрева и охлаждения в передовых лабораториях материаловедения и промышленных R&D центрах.
Двухзонная сдвижная трубчатая печь до 1200°C с фланцами 50 мм для CVD
Эта двухзонная сдвижная трубчатая печь с рабочей температурой до 1200°C оснащена кварцевыми фланцами диаметром 50 мм, специально разработанными для высокоточных процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD). Ускорьте промышленные исследования и разработки благодаря быстрому нагреву и охлаждению за счет сдвига печи, что обеспечивает превосходный синтез материалов, стабильные результаты и высочайшую эффективность осаждения тонких пленок.
Двухтрубная сдвижная печь CVD 100 мм / 80 мм с 4-канальной системой смешивания газов и вакуумной системой
Эта двухтрубная сдвижная печь для химического осаждения из газовой фазы (CVD) оснащена внешней трубкой 100 мм и внутренней трубкой 80 мм для гибких исследований электродов. Интегрированная 4-канальная станция смешивания газов и вакуумная система позволяют проводить быструю термическую обработку и прецизионный синтез графена.
Трубчатая печь 4 дюйма для высоких температур 1200°C со скользящим фланцем для систем CVD
Эта трубчатая печь 4 дюйма для температур до 1200°C оснащена скользящими фланцами для быстрой загрузки образцов и совместима с высоким вакуумом. Она разработана для прецизионных процессов химического осаждения из газовой фазы и передовых материаловедческих исследований, обеспечивая исключительно надёжную работу в сложных лабораторных условиях.
Трубчатая печь с внутренним подвижным тигелем 1200°C для осаждения тонких пленок в контролируемой атмосфере и исследования сублимации материалов
Эта раздвижная трубчатая печь 1200°C оснащена автоматическим внутренним тигельным механизмом для точного позиционирования образцов в контролируемых атмосферах. Идеально подходит для приложений PVD и DVD, обеспечивает превосходную консистентность роста пленок и эффективность термической обработки для лабораторий исследования современных материалов.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Высокотемпературная 1200°C 5-дюймовая сдвижная трубчатая печь для быстрого термического отжига (RTP) и отжига пластин
Ускорьте свои исследования материалов с помощью этой сдвижной трубчатой печи на 1200°C, предназначенной для быстрого термического отжига. Оснащенная 5-дюймовой кварцевой трубкой и двойными ПИД-контроллерами, она обеспечивает точные скорости нагрева и охлаждения для передовых полупроводниковых приложений.
Двухзонная сдвижная трубчатая печь 1200°C для выращивания 2D-материалов и синтеза методом TCVD
Оптимизируйте передовой синтез 2D-материалов с помощью этой двухпечной системы 1200°C, оснащенной сдвижной зоной нагрева для сверхбыстрого охлаждения, независимым ПИД-регулированием температуры и кварцевой рабочей камерой высокой чистоты, разработанной для прецизионного термического химического осаждения из газовой фазы (TCVD) и НИОКР.
Высокотемпературная автоматическая раздвижная двухзонная трубчатая печь на 1200°C для выращивания 2D дихалькогенидов переходных металлов и исследования сублимации материалов
Освойте синтез 2D-материалов с помощью этой автоматической раздвижной двухпечной системы на 1200°C, разработанной для выращивания TMD. Особенности: независимые зоны сублимации и осаждения для точного теплового контроля и высокой скорости охлаждения, обеспечивающие высококачественные результаты исследований по производству тонкопленочных кристаллов.
Трубчатая печь 1200C с внутренним магнитным скольжением образца для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки
Эта профессиональная трубчатая печь 1200C оснащена ручным магнитным механизмом скольжения образца, специально разработанным для прямого осаждения путем испарения и быстрой термической обработки. Она обеспечивает точный контроль температуры и стабильный рост материалов для требовательных научно-исследовательских и промышленных применений в области материаловедения.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Вертикальная открываемая трубчатая печь 0-1700°C, высокотемпературная лабораторная система для CVD и вакуумной термообработки
Спроектированная для передовых исследований материалов, эта вертикальная открываемая трубчатая печь на 1700°C оснащена прецизионным трехзонным нагревом и возможностями быстрого закаливания. Идеальна для процессов CVD и вакуумного отжига, она обеспечивает промышленную надежность, контроль атмосферы и модульную гибкость для требовательных сред НИОКР.
Трубчатая печь CVD со раздельной камерой и вакуумной станцией, система химического парофазного осаждения
Продвинутая трубчатая печь CVD со раздельной камерой, оснащенная интегрированной вакуумной станцией и 4-канальным газовым контроллером MFC. Разработанная для точного нанесения тонких пленок, синтеза наноматериалов и полупроводниковых НИОКР, эта установка обеспечивает высокотемпературную точность и исключительную равномерность осаждения.
Двухзонная трубчатая печь с двумя крышками для высокотемпературного CVD-процесса и вакуумного отжига
Профессиональная высокотемпературная двухзонная трубчатая печь, оснащенная нагревательными элементами Kanthal A1 и передовой PID-системой управления для научно-исследовательских и промышленных задач. Эта система обеспечивает прецизионную термообработку для CVD-процессов, вакуумного отжига и спекания материалов с непревзойденной надежностью.
5-дюймовая вращающаяся трубчатая печь с системой автоматической подачи и выгрузки, 1200°C, трехзонная обработка порошков методом CVD
Профессиональная 5-дюймовая вращающаяся трубчатая печь с системой автоматической подачи и выгрузки. Трехзонный нагрев до 1200°C с высокой производительностью для синтеза материалов литий-ионных аккумуляторов в контролируемой атмосфере или вакууме. Идеально подходит для масштабируемых промышленных исследований и разработок, а также пилотного производства, оптимизированного для эффективной термической обработки.
Шестизонная трубчатая печь разъемного типа с глиноземной трубкой и вакуумными фланцами для высокотемпературной обработки до 1500°C и CVD-процессов
Эта шестизонная трубчатая печь разъемного типа с рабочей температурой 1500°C обеспечивает исключительный тепловой контроль для профессиональных лабораторных исследований и высокотемпературных CVD-процессов. Оснащена глиноземной трубкой длиной 1800 мм и точными 30-сегментными ПИД-контроллерами для достижения стабильных результатов обработки материалов и отжига.
5-дюймовая трехзонная вращающаяся трубчатая печь со встроенной системой подачи газа и рабочей температурой до 1200°C для передовых процессов CVD
Эта высокоточная трехзонная вращающаяся трубчатая печь с рабочей температурой 1200°C оснащена встроенной четырехканальной системой подачи газа и автоматизированным механизмом наклона, обеспечивая равномерную термическую обработку и химическое осаждение из газовой фазы (CVD) для передовых аккумуляторных материалов, синтеза катодов и промышленных исследований порошков.
Высокотемпературная двухзонная вакуумная трубчатая печь для исследования материалов и процессов CVD
Расширьте возможности вашей лаборатории с помощью этой высокоточной двухзонной вакуумной трубчатой печи. Разработанная для передовых исследований материалов и процессов CVD, она оснащена независимым контролем температуры, высокой скоростью нагрева и надежной вакуумной герметизацией для получения стабильных результатов термообработки промышленного уровня.
