Печь RTP
Двухзонная печь CSS для быстрого термического процесса и нанесения тонкопленочных покрытий, диаметр 3 дюйма, 650°C
Артикул: TU-RT30
Доставка: Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Обзор продукта
Эта специализированная двухзонная система быстрого термического процесса разработана для высокоточных нужд материаловедения и промышленных НИОКР. Оборудование, специально созданное для процессов сублимационного осаждения в узком зазоре (CSS) и физического осаждения из паровой фазы (PVD), позволяет работать с подложками диаметром до 3 дюймов или квадратными подложками размером 2x2 дюйма. Благодаря интеграции двухзонной архитектуры нагрева, данная установка предоставляет исследователям критически важную возможность создания точных температурных градиентов между исходным материалом и подложкой, что необходимо для выращивания высококачественных кристаллических тонких пленок. Универсальный дизайн делает ее незаменимым инструментом для разработки фотоэлектрических технологий следующего поколения и исследования передовых полупроводниковых материалов.
Ориентированная на секторы возобновляемой энергии и полупроводников, эта установка термической обработки отлично подходит для производства солнечных элементов на основе теллурида кадмия (CdTe), перовскитов и селенида сурьмы (Sb2Se3). Прочная конструкция оборудования включает камеру из высокочистого плавленого кварца с внешним диаметром 11 дюймов, установленную на мобильной раме из алюминиевого сплава, что обеспечивает как структурную целостность, так и эксплуатационную гибкость. Использование коротковолновых инфракрасных галогенных нагревателей позволяет системе достигать циклов быстрого термического процесса, недоступных для традиционных муфельных печей, что значительно сокращает время обработки и повышает производительность в лабораторных условиях, где важна скорость экспериментальных итераций.
Уверенность в надежности — отличительная черта дизайна этого оборудования. Оно оснащено двумя 30-сегментными программируемыми контроллерами температуры, которые поддерживают строгую точность +/-1ºC, гарантируя абсолютную стабильность даже самых чувствительных тепловых профилей. Использование вакуумных фланцев из нержавеющей стали с двойными силиконовыми уплотнительными кольцами позволяет системе достигать глубокого вакуума, защищая чувствительные материалы от окисления и загрязнения. Такое сочетание прецизионной инженерии и высокопрочных компонентов гарантирует получение воспроизводимых результатов в жестких условиях современных промышленных исследований.
Основные характеристики
- Независимое двухзонное тепловое управление: Система включает две отдельные группы нагрева (верхнюю и нижнюю), управляемые отдельными прецизионными контроллерами. Это позволяет создавать специфические температурные перепады между источником испарения и подложкой, что жизненно важно для контроля роста зерен и толщины пленки в процессах CSS.
- Высокоэффективный инфракрасный галогенный нагрев: Используя коротковолновые ИК-лампы в качестве нагревательных элементов, установка обеспечивает быстрые циклы нагрева и охлаждения. Эта технология позволяет достигать скорости нагрева до 20ºC/с и скорости охлаждения до 10ºC/с, минимизируя тепловую инерцию и максимизируя эффективность процессов быстрого термического отжига (RTP).
- Регулируемое расстояние между нагревателями: Для адаптации к различным технологическим требованиям и динамике переноса пара расстояние между верхним и нижним нагревателями можно регулировать вручную в диапазоне от 10 мм до 50 мм. Эта гибкость позволяет пользователям точно настраивать сублимационный зазор для различных химических составов материалов.
- Реакционная камера из высокочистого кварца: Камера изготовлена из высокочистого плавленого кварца с внешним диаметром 11 дюймов, обеспечивая сверхчистую среду для осаждения тонких пленок. Отличная термостойкость и химическая инертность кварца гарантируют отсутствие примесей в процессе нанесения покрытия.
- Рубашки охлаждения нагревателей: Нагреватели заключены в рубашки из нержавеющей стали с водяным охлаждением. Такая конструкция значительно снижает тепловое излучение в окружающую среду и на раму печи, а также обеспечивает быстрое охлаждение, необходимое для процессов закалки и высокоинтенсивных экспериментальных рабочих процессов.
- Инструменты для обеспечения равномерности подложки: В верхний нагреватель встроен держатель для 3-дюймовых круглых пластин, дополненный пластиной из нитрида алюминия (AlN) с высокой теплопроводностью. Эта пластина действует как тепловой буфер, равномерно распределяя тепло по задней стороне подложки для устранения локальных перегревов и обеспечения равномерного осаждения пленки.
- Усовершенствованное управление вакуумом и газом: Система оснащена двумя расходомерами газа для точного контроля атмосферы и продувки. Фланцы из нержавеющей стали 316 с портами KFD-25 облегчают подключение к высоковакуумным насосным системам, позволяя достигать давления до 10E-5 Торр при использовании молекулярных насосов.
- Интегрированный цифровой мониторинг и программное обеспечение: Встроенный порт RS485 и специализированное программное обеспечение управления позволяют полностью управлять системой с ПК. Исследователи могут программировать сложные температурные профили, записывать данные в реальном времени и контролировать уровень вакуума с помощью антикоррозийного цифрового вакуумметра для полной прозрачности процесса.
Применение
| Применение | Описание | Ключевое преимущество |
|---|---|---|
| Производство солнечных элементов CdTe | Использование процесса CSS для осаждения пленок теллурида кадмия на стеклянные подложки для высокоэффективных фотоэлектрических исследований. | Точное управление градиентом ведет к улучшению структуры зерен и эффективности элементов. |
| Рост тонких пленок перовскита | Жидкофазная обработка с паровым содействием для создания планарных гетеропереходных перовскитных солнечных элементов. | Быстрый термический цикл минимизирует риск деградации перовскита во время обработки. |
| Фотовольтаика на основе Sb2Se3 | Разработка тонких пленок селенида сурьмы с ориентированными одномерными лентами для передового сбора света. | Улучшенный контроль динамики переноса пара через регулируемое расстояние между нагревателями. |
| Отжиг полупроводников | Быстрый термический отжиг (RTA) тонких пленок для активации допантов или восстановления повреждений кристаллической решетки в кремниевых или составных пластинах. | Более высокая скорость обработки по сравнению с обычными трубчатыми печами при минимальном тепловом бюджете. |
| Исследования покрытий CSS | Экспериментальное нанесение покрытий из различных материалов с использованием сублимации в узком зазоре в вакууме или контролируемой атмосфере. | Среда высокой чистоты и точный контроль сублимации для открытия новых материалов. |
| Тестирование на термостойкость | Подвергание образцов материалов быстрым температурным колебаниям для оценки долговечности и характеристик расширения. | Высокие скорости нагрева и охлаждения позволяют имитировать интенсивный тепловой удар. |
| Изучение фазовых переходов | Мониторинг изменений материала через точные температурные рампы и выдержки в контролируемой газовой среде. | Регистрация данных в реальном времени обеспечивает точное картирование точек фазового перехода. |
Технические характеристики
| Группа параметров | Детали спецификации | Значение для TU-RT30 |
|---|---|---|
| Идентификатор модели | Номер артикула | TU-RT30 |
| Конструкция камеры | Материал | Труба из высокочистого плавленого кварца |
| Размеры трубы | 11" Внеш. диам. / 10.8" Внутр. диам. x 9" В | |
| Рама и структура | Материал рамы | Мобильный алюминиевый сплав со встроенным управлением |
| Габаритные размеры | 850(Д) × 745(Ш) × 1615(В) мм | |
| Производительность нагрева | Макс. температура | ≤ 650ºC для каждого нагревателя |
| Макс. разница температур | Зазор 30 мм: 315ºC; Зазор 40 мм: 350ºC; Зазор 50 мм: 395ºC | |
| Скорость нагрева | < 8ºC/с (один нагреватель); макс. системы до 20ºC/с | |
| Скорость охлаждения | < 10ºC/с (от 600ºC до 100ºC) | |
| Система управления | Контроллеры | Двойные 30-сегментные программируемые ПИД-контроллеры |
| Точность | +/- 1ºC | |
| Интерфейс | Порт RS485 с ПО для ПК в комплекте | |
| Вакуумная система | Материал фланца | Нержавеющая сталь 316 с двойными силиконовыми кольцами |
| Уровень вакуума | 10E-2 Торр (механический насос); 10E-5 Торр (молекулярный насос) | |
| Порты | Вакуумные порты KFD-25; входы/выходы газа 1/4" | |
| Контроль атмосферы | Расходомеры газа | Два поплавковых расходомера: 16-160 мл/мин и 400-4000 мл/мин |
| Теплоизоляция | Углеродный войлок | |
| Электрические параметры | Рабочее напряжение | 208 - 240 В перем. тока, одна фаза, автомат 20А |
| Потребляемая мощность | 2200 Вт всего (1100 Вт на нагреватель) | |
| Работа с образцами | Вместимость держателя | 3" круглая пластина или 2" x 2" квадратная подложка |
| Средства равномерности | Пластина AlN с высокой теплопроводностью (3" диам. x 0.5 мм) | |
| Соответствие стандартам | Сертификация | Сертификат CE (NRTL/CSA по запросу) |
Почему стоит выбрать TU-RT30
- Непревзойденная тепловая точность: Эта система обеспечивает точный контроль температуры, необходимый для самых чувствительных процессов сублимации. Синхронизация двухзонного ПИД-регулирования гарантирует, что температурный градиент остается стабильным на протяжении всего цикла осаждения, что критически важно для достижения постоянной стехиометрии и морфологии пленки.
- Оптимизировано для быстрых циклов НИОКР: В отличие от традиционных печей, которым требуются часы на нагрев и охлаждение, быстрое термическое воздействие на основе галогенных ламп позволяет проводить несколько экспериментов в день. Это значительно ускоряет график разработки для исследователей, работающих над быстро развивающимися технологиями, такими как перовскитные солнечные элементы.
- Вакуумная герметичность промышленного класса: Благодаря фланцам из нержавеющей стали 316 и высокочистому кварцу, система поддерживает среду качества «чистой комнаты». Надежное уплотнение и прецизионный контроль вакуума защищают ваши ценные образцы от загрязнения, гарантируя, что экспериментальные результаты являются чистым отражением свойств материала, а не следствием влияния окружающей среды.
- Гибкая и масштабируемая архитектура: Регулируемое расстояние между нагревателями и универсальный держатель подложек делают это оборудование адаптируемым к широкому спектру материальных систем. Независимо от того, переходите ли вы от 1-дюймовых образцов к 3-дюймовым пластинам, система масштабируется вместе с вашими исследовательскими потребностями без необходимости дорогостоящего переоснащения.
- Комплексная безопасность и поддержка: Созданная с использованием сигнализации о перегреве, защиты с водяным охлаждением и компонентов, сертифицированных CE, система ставит во главу угла безопасность оператора и долговечность оборудования. THERMUNITS предоставляет полную техническую поддержку, чтобы гарантировать, что ваша система оптимизирована для конкретного применения с первого дня.
Для исследователей и отделов закупок, ищущих надежное высокопроизводительное решение для материаловедения тонких пленок, эта система представляет собой первоклассную инвестицию в эксплуатационную стабильность и прецизионную инженерию. Свяжитесь с нами сегодня для технической консультации или получения официального коммерческого предложения, адаптированного под требования вашего предприятия.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Двухзонная трубчатая печь быстрого нагрева с системой вакуумной атмосферы
Эта высокопроизводительная двухзонная трубчатая печь быстрого нагрева обеспечивает максимальную температуру 1200°C, скорость нагрева до 100°C в минуту, точное ПИД-регулирование и возможности работы в вакуумной атмосфере для передовых исследований материалов, спекания и процессов химического осаждения из газовой фазы.
Двухзонная вращающаяся трубчатая печь для порошкового CVD-покрытия и синтеза материалов типа «ядро-оболочка» 1100°C
Оптимизируйте обработку порошков с помощью этой высокопроизводительной двухзонной вращающейся трубчатой печи на 1100°C. Специально разработанная для CVD-покрытий и синтеза структур «ядро-оболочка», она оснащена пятидюймовой кварцевой трубкой и смесительными лопастями для обеспечения исключительной температурной однородности и стабильного производства партий материалов.
Двухзонная трубчатая печь на 1100°C с 11-дюймовой кварцевой трубкой и вакуумными фланцами для обработки 8-дюймовых пластин
Эта передовая высокотемпературная двухзонная трубчатая печь спроектирована с 11-дюймовой кварцевой трубкой и 24-дюймовой зоной нагрева для обеспечения исключительной термической однородности при отжиге 8-дюймовых пластин, спекании материалов и является специализированным оборудованием для химического осаждения из газовой фазы для промышленных и лабораторных применений.
Компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь с вакуумными фланцами из нержавеющей стали для быстрой термической закалки и обработки материалов в контролируемой атмосфере
Эта компактная вертикальная разъемная кварцевая трубчатая печь, разработанная для высокоточных исследований, обеспечивает быстрый нагрев до 1100°C. Оснащенная вакуумными фланцами из нержавеющей стали и 30-сегментным программируемым управлением, она является незаменимым инструментом для материаловедения и промышленных процессов закалки. Надежная производительность.
Двухзонная трубчатая печь 1500°C с разъемным корпусом, вакуумным фланцем и алюмооксидной трубкой 80 мм
Высокопроизводительная двухзонная трубчатая печь 1500°C с разъемным корпусом, оснащенная алюмооксидной трубкой 80 мм, нагревательными элементами из карбида кремния (SiC) и точным ПИД-регулированием. Идеально подходит для НИОКР в области материаловедения, химического осаждения из газовой фазы (CVD) и термической обработки в вакууме или различных газовых средах для передовых промышленных лабораторных исследований.
Двухзонная высокотемпературная трубчатая печь для материаловедческих исследований и профессиональной термической обработки
Усовершенствованная двухзонная трубчатая печь, разработанная для прецизионной термической обработки материалов, оснащенная шведскими нагревательными элементами Kanthal и сложной ПИД-системой управления для получения стабильных результатов в требовательных промышленных НИОКР и лабораторных условиях.
Двухзонная ИК-печь для быстрого термического отжига (RTP) с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и подвижными держателями образцов
Высокопроизводительная двухзонная ИК-печь RTP с кварцевой трубкой (внутренний диаметр 4 дюйма) и двумя подвижными держателями образцов. Обеспечивает скорость нагрева до 50°C/с для передовых исследований в области синтеза 2D-материалов, сверхпроводимости и прецизионного высокоскоростного осаждения из паровой фазы.
Скоростная трубчатая печь для термической обработки с кварцевой трубкой 4 дюйма и ИК-нагревом до 900°C
Оптимизируйте синтез материалов с помощью этой скоростной трубчатой печи RTP с максимальной температурой 900°C. Разработанная для быстрого ИК-нагрева со скоростью 50°C/с и автоматизированного охлаждения, она обеспечивает точный контроль для исследований графена, углеродных нанотрубок и перовскитных солнечных элементов.
Удлиненная двухзонная трубчатая печь для промышленных термообработок и исследований в области материаловедения
Эта удлиненная двухзонная трубчатая печь оснащена шведскими нагревательными элементами Kanthal A1 и усовершенствованной ПИД-системой управления для точных материаловедческих исследований. Благодаря возможности работы в вакууме и защитной среде, она обеспечивает превосходную температурную однородность и надежность для требовательных промышленных лабораторных процессов термообработки.
Высокотемпературная двухзонная вакуумная трубчатая печь для исследования материалов и процессов CVD
Расширьте возможности вашей лаборатории с помощью этой высокоточной двухзонной вакуумной трубчатой печи. Разработанная для передовых исследований материалов и процессов CVD, она оснащена независимым контролем температуры, высокой скоростью нагрева и надежной вакуумной герметизацией для получения стабильных результатов термообработки промышленного уровня.
Автоматизированная сдвижная трубчатая печь для быстрого нагрева и охлаждения, внешний диаметр 2 дюйма, макс. 1100°C
Оптимизируйте исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной автоматизированной сдвижной трубчатой печи. Эта система с максимальной температурой 1100°C обеспечивает сверхбыстрый нагрев и охлаждение со скоростью до 100°C в минуту, гарантируя прецизионную термическую обработку для полупроводников, нанотехнологий и промышленных НИОКР, требующих быстрого термического цикла.
Двухзонная трубчатая печь с двумя крышками для высокотемпературного CVD-процесса и вакуумного отжига
Профессиональная высокотемпературная двухзонная трубчатая печь, оснащенная нагревательными элементами Kanthal A1 и передовой PID-системой управления для научно-исследовательских и промышленных задач. Эта система обеспечивает прецизионную термообработку для CVD-процессов, вакуумного отжига и спекания материалов с непревзойденной надежностью.
Высокотемпературная удлиненная двухзонная трубчатая печь для материаловедческих исследований и промышленной термообработки
Улучшите свои исследования материалов с помощью этой высокопроизводительной удлиненной двухзонной трубчатой печи. Благодаря использованию шведских нагревательных элементов Kanthal A1 и передового ПИД-регулирования, печь обеспечивает исключительную равномерность нагрева до 1200°C для сложных лабораторных и промышленных научно-исследовательских задач в современной инженерии.
Высокотемпературная двухзонная вращающаяся трубчатая печь 1500°C с карбид-кремниевыми нагревателями для синтеза передовых материалов
Оптимизируйте термическую обработку с помощью этой высокоточной двухзонной вращающейся трубчатой печи. Благодаря максимальной температуре 1500°C и передовым нагревательным элементам из карбида кремния (SiC), она обеспечивает равномерные результаты для промышленных НИОКР, химического осаждения из газовой фазы и сложных приложений в области материаловедения в лабораториях по всему миру.
Двухзональная кварцевая трубчатая печь с диаметром 80 мм, максимальной температурой 1200°C, трехканальным газосмесителем и системой вакуумного насоса
Эта современная двухзональная кварцевая трубчатая печь оснащена трубой диаметром 80 мм, встроенным трехканальным газосмешиванием и высокопроизводительной вакуумной системой. Идеально подходит для CVD и исследования материалов, обеспечивает точную термообработку при температуре 1200°C и антикоррозионный контроль вакуума.
Двухзонная сдвижная трубчатая печь 1200°C для выращивания 2D-материалов и синтеза методом TCVD
Оптимизируйте передовой синтез 2D-материалов с помощью этой двухпечной системы 1200°C, оснащенной сдвижной зоной нагрева для сверхбыстрого охлаждения, независимым ПИД-регулированием температуры и кварцевой рабочей камерой высокой чистоты, разработанной для прецизионного термического химического осаждения из газовой фазы (TCVD) и НИОКР.
Двухтрубная сдвижная печь CVD 100 мм / 80 мм с 4-канальной системой смешивания газов и вакуумной системой
Эта двухтрубная сдвижная печь для химического осаждения из газовой фазы (CVD) оснащена внешней трубкой 100 мм и внутренней трубкой 80 мм для гибких исследований электродов. Интегрированная 4-канальная станция смешивания газов и вакуумная система позволяют проводить быструю термическую обработку и прецизионный синтез графена.
Двухзонная вращающаяся трубчатая печь с прецизионным вращением и регулируемым наклоном для передовых исследований материалов
Высокопроизводительная двухзонная вращающаяся трубчатая печь с нагревательными элементами Kanthal A1 и прецизионным вращением для равномерной обработки материалов. Идеально подходит для процессов CVD и научно-исследовательских работ, требующих надежного температурного контроля и регулируемого наклона в условиях требовательных промышленных лабораторий.
Печь трубчатая с быстрым ИК-нагревом и скользящим механизмом RTP, максимальная температура 900 ºC, с кварцевой трубкой Ø 4 дюйма
Максимизируйте эффективность НИОКР с этой скользящей RTP трубчатой печью на 900°C, оснащенной быстрым ИК-нагревом, скоростью нагрева до 50°C/с и автоматическим охлаждением для выращивания графена, синтеза УНТ и отжига полупроводниковых пластин в вакууме или атмосферных условиях.
Высокотемпературная двухзонная трубчатая печь 1700°C для материаловедения и промышленных исследований химического осаждения из газовой фазы
Эта высокотемпературная двухзонная трубчатая печь 1700°C обеспечивает независимое управление для создания точных температурных градиентов. Она идеально подходит для процессов CVD, PVD и выращивания кристаллов в передовых исследованиях материалов, оснащена нагревательными элементами из MoSi2 и надежной вакуумно-герметичной трубкой из оксида алюминия для промышленной эксплуатации.
